日本成功研發(fā)非易失化技術(shù):零待機(jī)功耗的內(nèi)容可尋址存儲(chǔ)器
在存儲(chǔ)器與邏輯電路(比較電路)融為一體的內(nèi)容可尋址存儲(chǔ)器(CAM)方面,NEC和日本東北大學(xué)全球首次開發(fā)出了與原有CAM保持同等處理速度、切斷電源后仍能保存數(shù)據(jù)的非易失化技術(shù)(圖1)。CAM的每個(gè)bit都擁有比較電路,能快速找出與輸入字符一致的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)地址,并返回該地址。在CPU等的SoC(System on a Chip)內(nèi),CAM被用于轉(zhuǎn)換內(nèi)存地址。
圖1:NEC和日本東北大學(xué)試制的非易失型CAM(點(diǎn)擊放大)
采用該技術(shù),無(wú)需犧牲啟動(dòng)時(shí)間,即可將CAM的待機(jī)功耗降為零*1。并且,有利于實(shí)現(xiàn)即使待機(jī)功耗為零、再接通電源時(shí)也能夠瞬間啟用的電子產(chǎn)品。
?。? NEC計(jì)劃3~4年后使該技術(shù)達(dá)到實(shí)用水平。由于元件采用不同于以往的材料,因此確立工藝技術(shù)是目前面臨的課題。
現(xiàn)在,各種電子產(chǎn)品的待機(jī)功耗都很大。比如:臺(tái)式電腦在睡眠狀態(tài)下,會(huì)消耗約2.4W電力。42英寸的液晶電視在高速啟動(dòng)模式下,待機(jī)功耗高達(dá)約18W。
這是因?yàn)楝F(xiàn)在的電子產(chǎn)品為了縮短啟動(dòng)時(shí)間,必須保持內(nèi)部電路的通電狀態(tài)。比如,原來(lái)在切斷電源時(shí)CPU會(huì)丟失內(nèi)部信息,因此在斷電時(shí)必須將信息轉(zhuǎn)移到外部存儲(chǔ)裝置,而再通電時(shí),必須重新讀入這些信息。如果將新開發(fā)的CAM應(yīng)用于CPU,則無(wú)需從外部存儲(chǔ)裝置重新讀入信息,因此能夠縮短啟動(dòng)時(shí)間。當(dāng)然,CPU中除CAM以外,還配備有存儲(chǔ)器和運(yùn)算電路等,因此要想將整個(gè)系統(tǒng)LSI的待機(jī)功耗降為零,那么這些部件均實(shí)現(xiàn)非易失化也至關(guān)重要。
磁化方向隨磁壁位置而改變
NEC和日本東北大學(xué)為實(shí)現(xiàn)CAM非易失化采用的是垂直磁壁元件。這是使磁化與電流垂直,優(yōu)化了結(jié)構(gòu)和材料的元件。如圖2所示,該元件由鈷鎳(Co-Ni)疊層膜構(gòu)成的磁性體層(自由層)和鈷鉑(Co-Pt)疊層膜構(gòu)成的強(qiáng)力磁鐵(引腳層)組成。
圖2:垂直磁壁元件和存儲(chǔ)機(jī)制(點(diǎn)擊放大)
為使自由層兩端的磁化方向相反,用引腳層固定,因此中途會(huì)形成磁化方向由向上變成向下的壁(磁壁)。寫入電流通過(guò)時(shí),該磁壁的位置移至電流上流(電子流的下游)。
電流沿著長(zhǎng)度方向在自由層內(nèi)部流動(dòng)。在電流流入流出的自由層兩端的下部配置引腳層,將自由層兩端的磁化方向一端向上固定,另一端向下固定。
從微觀來(lái)看,這時(shí)的自由層磁化方向就是Co-Ni疊層膜的不成對(duì)電子的自旋方向。因此,電子在自由層內(nèi)從磁化方向向上側(cè)向向下側(cè)流動(dòng)時(shí),新流入自由層的電子向上自旋。
同時(shí),該電子將向上自旋的原有不成對(duì)電子擠向下游。該不成對(duì)電子進(jìn)一步將下游的不成對(duì)電子擠向下游,不成對(duì)電子就像臺(tái)球一樣依次傳向下游。
結(jié)果,自由層內(nèi)磁化方向突變的磁壁的位置也向電子流的下游(電流的上流)移動(dòng)。從而使得自由層長(zhǎng)度方向中央部的磁化方向向上(信息“0”),改變電流方向時(shí),磁化方向就變成向下(信息“1”)。
這樣,垂直磁壁元件就能夠根據(jù)電流(寫入電流)方向來(lái)移動(dòng)磁壁的位置。由于磁壁的位置一直保持到下次寫入電流通過(guò),因此即使切斷電源也能夠保存信息。
靠外配置MTJ元件
在這項(xiàng)新技術(shù)中,用于讀取所存儲(chǔ)的磁化方向的是磁性隧道結(jié)(MTJ)元件。該元件由讀取引腳層、絕緣體通道膜和讀取自由層構(gòu)成。讀取引腳層和讀取自由層的磁化方向相同,電阻就會(huì)減小,反之,電阻就會(huì)增大。
如圖3所示,將MTJ元件配置在垂直磁壁元件的長(zhǎng)邊中央部分的上方。這樣,垂直磁壁元件中央部分的磁化方向向上時(shí),就會(huì)使讀取自由層發(fā)生向外的磁化,元件中央部分的磁化方向向下時(shí),就會(huì)發(fā)生向內(nèi)的磁化。由于讀取引腳層的磁化方向是固定向外的,因此垂直磁壁元件自由層中央部的磁化向上時(shí),MTJ元件的電阻就會(huì)減小,向下時(shí),電阻就會(huì)增大。
圖3:讀取機(jī)制(點(diǎn)擊放大)
垂直磁壁元件中央部的磁化方向向上時(shí),讀取MTJ元件的讀取自由層的磁化方向向外,元件中央部的磁化方向向下時(shí),讀取MTJ元件的讀取自由層的磁化方向向內(nèi)。由于讀取引腳層的磁化方向是固定向外的,因此讀取MTJ元件的電阻值在磁化方向向上時(shí)減小,在磁化方向向下時(shí)增大。
實(shí)際上,是采用圖4所示的電路向垂直磁壁元件寫入和通過(guò)MTJ元件來(lái)讀取的。將兩個(gè)垂直磁壁元件串聯(lián),同時(shí)進(jìn)行寫入,以在一個(gè)寫入電流下使兩個(gè)垂直磁壁元件的磁化方向相反。
圖4:寫入和讀取用電路(點(diǎn)擊放大)
一個(gè)特點(diǎn)是兩個(gè)垂直磁壁元件串聯(lián),同時(shí)進(jìn)行寫入,以在一種寫入電流下使兩個(gè)垂直磁壁元件的磁化方向相反。另一個(gè)特點(diǎn)是分離了寫入電流和讀取電流的通道。
根據(jù)這些MTJ元件讀取電流的大小可以辨別出所存儲(chǔ)的信息是1還是0。如果用絕對(duì)值檢測(cè)電流,則需要復(fù)雜的電路,而利用該方法只需要比較大小,因此用簡(jiǎn)單的電路即可。
另外,由于分離了寫入電流和讀取電流的兩個(gè)通道,因此不用擔(dān)心從寫入轉(zhuǎn)為讀取時(shí),電流會(huì)流過(guò)讀取電流的通道,無(wú)需等待即可開始讀取工作。這樣,周期為5ns時(shí),便實(shí)現(xiàn)了與使用原有CMOS晶體管的CAM同等的處理速度*2。另外,通過(guò)共用垂直磁壁元件的寫入晶體管,面積比原來(lái)的CAM減半。耗電量為9.4mW。
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