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光電導材料薄膜沉積的PVD工藝參數(shù)優(yōu)化：膜厚均勻性控制
在光電傳感器、太陽能電池及柔性電子器件等前沿領域，光電導材料薄膜的膜厚均勻性直接影響器件的光電轉(zhuǎn)換效率、響應速度及長期穩(wěn)定性。物理氣相沉積（PVD）技術(shù)因其低溫沉積、高純度成膜等優(yōu)勢，成為制備光電導薄膜的核心工藝。然而，膜厚不均勻性導致的器件性能波動問題仍制約著技術(shù)突破。本文從設備結(jié)構(gòu)、工藝參數(shù)及過程監(jiān)控三個維度，系統(tǒng)闡述PVD工藝參數(shù)優(yōu)化策略，為提升光電導薄膜均勻性提供技術(shù)參考。
