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射頻及微波校準源測量法
在開發(fā)中進行測量，可用以評估是否達成目標規(guī)范的性能，同時在測試制程中的產(chǎn)品時將面臨各種挑戰(zhàn)，包括確認使用的方法是否可提供較為確定的所需數(shù)值范圍、缺乏某項參數(shù)的追溯，以及確認可作為交叉檢查的
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解析射頻及微波校準源測量方法
在開發(fā)中進行測量，可用以評估是否達成目標規(guī)范的性能，同時在測試制程中的產(chǎn)品時將面臨各種挑戰(zhàn)，包括確認使用的方法是否可提供較為確定的所需數(shù)值范圍、缺乏某項參數(shù)的追溯，以及確認可作為交叉檢
