據(jù)業(yè)內(nèi)消息,本周西安一高校半導體研究團隊宣布在半導體材料研究上取得突破!該研究成功在 8 英寸硅片中制備出高質(zhì)量的氧化鎵外延片,標志著在超寬禁帶半導體研究上取得重要進展。
SiC和GaN并不是終點,最近,氧化鎵(Ga2O3)再一次走入了人們的視野,憑借其比SiC和GaN更寬的禁帶,該種化合物半導體在更高功率的應用方面具有獨特優(yōu)勢。因此,近幾年關于氧化鎵的研究又熱了起來。
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