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大功率汞燈電源測(cè)控系統(tǒng)研究
隨著微電子技術(shù)的不斷發(fā)展，為最大程度提高微細(xì)加工的生產(chǎn)效率，超大面積光刻設(shè)備的需求也在不斷增加。而大面積、高強(qiáng)度、高均勻性的曝光系統(tǒng)正是此類設(shè)備的核心單元系統(tǒng)，是影響其分辨力和生產(chǎn)率的關(guān)鍵
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