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芯片制程N(yùn)2

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臺(tái)積電2納米芯片性能提升僅15%，知情人士稱試產(chǎn)良率超過(guò)60%

臺(tái)積電正在優(yōu)化下一代芯片制程N(yùn)2，也就是2納米芯片。從最近泄露的信息看，N2的能效和密度的確優(yōu)于N3，但可能提升的幅度沒(méi)有那么大。

極客網(wǎng)
2024-12-20

臺(tái)積電 2納米芯片芯片制程N(yùn)2

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