引言 金屬磁記憶檢測(cè)技術(shù)自提出后一直具有良好的應(yīng)用前景,但其理論研究的不足是制約該技術(shù)應(yīng)用和發(fā)展的最大瓶頸。現(xiàn)有的理論研究認(rèn)為,鐵磁材料結(jié)構(gòu)表層的隱性缺陷會(huì)產(chǎn)生法向磁場(chǎng)分量過(guò)零值點(diǎn)
是德科技創(chuàng)新技術(shù)峰會(huì)來(lái)襲,報(bào)名領(lǐng)好禮
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