在現(xiàn)代電子技術領域,MOS 場效應管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor)憑借其獨特優(yōu)勢,如高輸入阻抗、低噪聲、易于集成等,被廣泛應用于各類電子產(chǎn)品中,從日常的手機、電腦到復雜的工業(yè)控制、通信設備等,都離不開 MOS 場效應管的身影。然而,MOS 場效應管對靜電極為敏感,靜電擊穿問題嚴重影響其性能和可靠性,甚至導致器件永久性損壞,給電子產(chǎn)品的生產(chǎn)、使用和維護帶來諸多困擾。深入探究 MOS 場效應管被靜電擊穿的原因,對提升電子產(chǎn)品質量、降低生產(chǎn)成本、保障設備穩(wěn)定運行具有重要現(xiàn)實意義。