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三星或于下年推出7nm和11nm半導(dǎo)體工藝
三星宣布，新加入了11nm LPP工藝，性能比此前的14nm提升了15%，單位面積的功耗降低了10%。三星將于9月15日在東京舉辦的半導(dǎo)體會(huì)議上公布，未來(lái)的技術(shù)還會(huì)有所提升。
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