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SRII重磅亮相CICD 2021，以先進ALD技術賦能第三代半導體產業(yè)
功率器件作為半導體產業(yè)的重要組成部分，擁有非常廣泛的技術分類以及應用場景。例如，傳統的硅基二極管、IGBT和MOSFET等產品經過數十年的發(fā)展，占據了絕對領先的市場份額。不過，隨著新能源汽車、數據中心、儲能、手機快充等應用的興起，擁有更高耐壓等級、更高開關頻率、更高性能的新型SiC、GaN等第三代半導體功率器件逐漸嶄露頭角，獲得了業(yè)界的持續(xù)關注。
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應用材料推出面向3D設備的高性能原子層沉積(ALD)技術
21ic訊—2015年7月13日消息，應用材料公司今天宣布推出全新的Olympia™原子層沉積(atomic layer deposition, ALD)系統。該系統采用獨特的模塊化架構，為先進3D內存和邏輯芯片制造商帶來了高性能ALD技術。3
小軒窗
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