持續(xù)的器件微縮導致特征尺寸變小,工藝步驟差異變大,工藝窗口也變得越來越窄[1]。半導體研發(fā)階段的關鍵任務之一就是尋找工藝窗口較大的優(yōu)秀集成方案。如果晶圓測試數(shù)據(jù)不足,評估不同集成方案的工藝窗口會變得困難。為克服這一不足,我們將舉例說明如何借助虛擬制造評估 DRAM 電容器圖形化工藝的工藝窗口。
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