本次復(fù)享光學(xué)承擔(dān)的項目,屬于“科學(xué)儀器研制開發(fā)”專題項目。該項目基于共焦拉曼光譜,發(fā)展面向GAA-FET制程檢測的拉曼光譜技術(shù),探索在GAA-FET制備過程中多層納米薄膜的厚度、應(yīng)力、界面起伏、橫向刻蝕和溝道載流子遷移率等關(guān)鍵參數(shù)的量測技術(shù),形成一套具有重大產(chǎn)業(yè)應(yīng)用前景的專業(yè)高端拉曼光譜設(shè)備。
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