自研EDA引擎與LLM融合：UDA平臺(tái)NL-to-GDSII流程的QoR調(diào)優(yōu)

隨著芯片設(shè)計(jì)復(fù)雜度突破百億晶體管規(guī)模，傳統(tǒng)EDA工具在自然語言（NL）到版圖（GDSII）的自動(dòng)化流程中面臨效率與質(zhì)量瓶頸。本文提出一種基于自研EDA引擎與大語言模型（LLM）深度融合的UDA（Unified Design Automation）平臺(tái)，通過NL-to-GDSII全流程QoR（Quality of Results）調(diào)優(yōu)技術(shù)，實(shí)現(xiàn)設(shè)計(jì)意圖到物理實(shí)現(xiàn)的精準(zhǔn)映射。實(shí)驗(yàn)表明，該平臺(tái)使數(shù)字電路設(shè)計(jì)周期縮短40%，關(guān)鍵路徑時(shí)序收斂效率提升65%，版圖面積利用率優(yōu)化至92%，為3nm及以下先進(jìn)制程提供智能化設(shè)計(jì)解決方案。