0 引言 隨著芯片集成度的不斷提高,Cu已經取代Al成為超大規(guī)模集成電路互連中的主流互連材料。在目前的芯片制造中,芯片的布線和互連幾乎全部是采用直流電鍍的方法獲得
兩年一屆的德國慕尼黑國際電子元器件展覽會(Electronica),于2016年11月8-11日在德國慕尼黑新國際博覽中心盛大開幕。
是德科技創(chuàng)新技術峰會來襲,報名領好禮
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