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euv光刻技術(shù)

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助力高級光刻技術(shù)：存儲和運(yùn)輸EUV掩模面臨的挑戰(zhàn)

隨著半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)突破設(shè)計尺寸不斷縮小的極限，極紫外(EUV)光刻技術(shù)的運(yùn)用逐漸擴(kuò)展到大規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境中。對于7納米及更小的高級節(jié)點(diǎn)，EUV光刻技術(shù)是一種能夠簡化圖案形成工藝的支持技術(shù)。要在如此精細(xì)的尺寸下進(jìn)行可靠制模，超凈的掩模必不可少。

Entegris
2019-07-03

euv光刻技術(shù) euv掩模光罩盒

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