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euv掩模

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助力高級光刻技術：存儲和運輸EUV掩模面臨的挑戰(zhàn)

隨著半導體行業(yè)持續(xù)突破設計尺寸不斷縮小的極限，極紫外(EUV)光刻技術的運用逐漸擴展到大規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境中。對于7納米及更小的高級節(jié)點，EUV光刻技術是一種能夠簡化圖案形成工藝的支持技術。要在如此精細的尺寸下進行可靠制模，超凈的掩模必不可少。

Entegris
2019-07-03

euv光刻技術 euv掩模光罩盒