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n7+工藝節(jié)點

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臺積電N7+工藝節(jié)點明年量產

在工藝技術方面，臺積電宣布以N7+工藝節(jié)點投片客戶芯片，該工藝節(jié)點采用可處理4層掩膜的EUV。而其N5 EUV則可提高到處理多達14層掩膜，并將在明年4月準備好進行風險試產。通過EUV技術可望減少先進設計所需的掩膜數(shù)，從而降低成本。

單片機
2018-11-22

臺積電極紫外光刻 n7+工藝節(jié)點