集成電路(IC)的發(fā)展始于20世紀(jì)50年代。最初,這些電路由幾個(gè)晶體管、電阻器、和電容器組成,被安裝在單個(gè)的硅片上。隨著摩爾定律的提出,集成電路的復(fù)雜度迅速增加,使得每個(gè)硅片可以容納成千上萬個(gè)晶體管。
寄生電容是電路中非人為設(shè)計(jì)的電容效應(yīng),由導(dǎo)線、元件或?qū)w間的互容形成,又稱雜散電容。其本質(zhì)是電感、電阻或芯片引腳在高頻環(huán)境下表現(xiàn)出的等效電容特性,通常由等效串聯(lián)電阻(ESR)和等效串聯(lián)電感(ESL)組成。
數(shù)學(xué)建模,就是根據(jù)實(shí)際問題來建立數(shù)學(xué)模型,對數(shù)學(xué)模型來進(jìn)行求解,然后根據(jù)結(jié)果去解決實(shí)際問題。
存儲器是一種用于存儲數(shù)據(jù)的集成電路。存儲器的架構(gòu)可以分為靜態(tài)隨機(jī)存取存儲器(SRAM)和動態(tài)隨機(jī)存取存儲器(DRAM)等類型。
在電子設(shè)備中,電容損壞引發(fā)的故障率居高不下,其中尤以電解電容的損壞最為普遍。電容損壞形式多樣,包括容量衰減、完全失效、漏電以及短路等。
芯片架構(gòu)是芯片設(shè)計(jì)的核心,它決定了芯片的功能、性能以及與外部設(shè)備的協(xié)同工作方式??梢园研酒軜?gòu)理解為建筑設(shè)計(jì)圖,它描述了整個(gè)芯片的組織結(jié)構(gòu)和功能模塊,類似于房屋設(shè)計(jì)圖描繪了房間布局和各個(gè)功能區(qū)域。
?電池Pack的放電深度(Depth of Discharge,DoD)是指電池放電到某一特定電壓時(shí)所放出的電量占其額定容量的百分比?。放電深度是衡量電池使用程度的一個(gè)重要參數(shù),它直接影響電池的壽命和性能。
電磁耦合原理的非接觸式自動識別技術(shù),通過閱讀器與電子標(biāo)簽間的無線通信實(shí)現(xiàn)目標(biāo)對象識別與數(shù)據(jù)交換。
天線主要負(fù)責(zé)射頻信號和電磁信號之間的相互轉(zhuǎn)換,射頻芯片主要負(fù)責(zé)射頻信號和基帶信號之間的相互轉(zhuǎn)換(即高頻率電磁波信號與二進(jìn)制信號的相互轉(zhuǎn)換),射頻前端負(fù)責(zé)將接收和發(fā)射的射頻信號進(jìn)行放大和濾波。
光通信信號分析儀是針對光通信系統(tǒng)設(shè)計(jì)的專用測量設(shè)備,主要用于對光通信中的信號進(jìn)行分析。其核心功能在于對光通信中的信號進(jìn)行分析 [1]。該儀器對光通信中的信號進(jìn)行分析 [1]。