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[導(dǎo)讀]臺(tái)積電總裁魏哲家在昨(18)日的財(cái)報(bào)會(huì)議中指出,預(yù)計(jì)5nm制程一開始起步將會(huì)比7nm慢一些些,但由于極紫外光(EUV)技術(shù)成熟度會(huì)加快,讓很多芯片能更有效率,因此看好5nm整體放量速度將會(huì)比7nm要快,并成為臺(tái)積電下一波成長主力。

臺(tái)積電總裁魏哲家在昨(18)日的財(cái)報(bào)會(huì)議中指出,預(yù)計(jì)5nm制程一開始起步將會(huì)比7nm慢一些些,但由于極紫外光(EUV)技術(shù)成熟度會(huì)加快,讓很多芯片能更有效率,因此看好5nm整體放量速度將會(huì)比7nm要快,并成為臺(tái)積電下一波成長主力。

 

 

魏哲家還指出,5nm制程所導(dǎo)入的產(chǎn)品應(yīng)用,主要以移動(dòng)設(shè)備的處理器和高速運(yùn)算電腦為主,且在進(jìn)入5G時(shí)代后,采用該制程的客戶產(chǎn)品類別與數(shù)量都會(huì)增加,使5nm制程整體市場規(guī)模更將大于7nm。

據(jù)臺(tái)積電第一季度財(cái)報(bào)顯示,7nm制程占晶圓總收入的22%,環(huán)比持平。10nm貢獻(xiàn)了4%,環(huán)比下降2.3個(gè)百分點(diǎn),而16nm工藝技術(shù)占16%。先進(jìn)制程(16納米及以下)營收占總收入的42%,環(huán)比下降7個(gè)百分點(diǎn)。先進(jìn)制程營收占比下降的主要原因是:14B廠受光阻原料事件影響,其部分12、16 nm制程晶圓報(bào)廢。

另外,臺(tái)積電表示將維持2019年資本支出100~110億美元的規(guī)劃,并將其80%資金投入先進(jìn)制程(7/5/3nm) 。

對于5nm制程實(shí)際產(chǎn)能的投入,魏哲家則指出,臺(tái)積電5nm已進(jìn)入風(fēng)險(xiǎn)性試產(chǎn)階段,明年上半年預(yù)計(jì)會(huì)進(jìn)入量產(chǎn),但目前在這部分的態(tài)度將會(huì)較謹(jǐn)慎看待,初期布建產(chǎn)能不會(huì)太多,但預(yù)期隨著客戶訂單陸續(xù)到位,5nm制程放量速度將比7nm要快上許多,也會(huì)是臺(tái)積電未來幾年成長的主要?jiǎng)幽堋?/p>

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