新唐科技發(fā)布高功率紫外激光二極管(379 nm,1.0 W)
Imec展示首個(gè)采用EUV光刻技術(shù)的晶圓級(jí)固態(tài)納米孔制造工藝
不一樣的展會(huì),不一樣的精彩:2025灣芯展順利收官
思坦科技助力深紫外Micro-LED顯示無(wú)掩膜光刻技術(shù)榮登Nature Photonics
光刻技術(shù)的基本原理是什么?主要有哪些應(yīng)用?
在當(dāng)下的半導(dǎo)體先進(jìn)制程領(lǐng)域中,三星、英特爾、臺(tái)積電三足鼎立,各有千秋
在當(dāng)下半導(dǎo)體先進(jìn)制程領(lǐng)域中,三星、英特爾、臺(tái)積電三足鼎立各有千秋
可編程邏輯件概述
光刻技術(shù)的工藝流程和曝光系統(tǒng)
中科院辟謠:5nm光刻技術(shù)被誤讀,國(guó)產(chǎn)水平在180nm
北京尋找互動(dòng)裝置落地,找機(jī)電一體化 / 原型開(kāi)發(fā)合作者
預(yù)算:¥8000工業(yè)無(wú)線(xiàn)同步調(diào)平系統(tǒng)主控板PCB設(shè)計(jì)
預(yù)算:¥4500信號(hào)采集分機(jī)電路板嵌入式驅(qū)動(dòng)程序開(kāi)發(fā)
預(yù)算:¥20000傳感器標(biāo)定控制系統(tǒng)開(kāi)發(fā)
預(yù)算:¥50000