今年,頻頻爆出摩爾定律將不再是制造工藝界的神話,雖說如此,但新制造工藝的發(fā)展仍然不可忽視。而在14nm向10nm、7nm發(fā)展的過程中,解決漏電問題就成為了關鍵。為了解決該問題,Intel在其制造工藝中融合了高介電薄膜
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