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EBL

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目前最高制造精度，美Zyvex產(chǎn)出0.7nm線寬芯片

據(jù)業(yè)內(nèi)消息，近日美國一家商業(yè)精密制造公司Zyvex表示制出了亞納米分辨率光刻系統(tǒng)ZyvexLitho1，這個(gè)系統(tǒng)沒有采用EUV光刻技術(shù)，但是卻能產(chǎn)出只有0.7nm線寬的芯片，是目前最高制造精度。

通信先鋒
2022-09-26

Zyvex 0.7nm 芯片 EBL EUV ASML
安森美半導(dǎo)體贊助IEEE Empower a Billion Lives競(jìng)賽

高能效創(chuàng)新是長期解決能源缺乏的關(guān)鍵

安森美(onsemi)
2019-08-08

智能傳感器 ebl 創(chuàng)新競(jìng)賽

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