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美日大廠NF3供給遲緩南韓廠商擴能趁勝追擊

三氟化氮(NF3)是一種溫室氣體，但也是半導體及TFTLCD生產(chǎn)制程中重要的工業(yè)用氣體，由于其具備清潔化學氣相沉積(CVD)制程以及干蝕刻(DryEtching)制程硅化物的特性，而成為目前半導體及面板產(chǎn)業(yè)關鍵的特殊氣體。DIGITI

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2011-05-04

MATERIALS BORDER GIT ETCHING

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