EVG?770 NT支持用于增強現(xiàn)實波導、晶圓級光學器件和先進生物醫(yī)學芯片的復雜微納結構的大面積母版拼版技術
EVG 與 DELO 合作為晶圓級光學元件和納米壓印光刻技術開發(fā)材料并提升工藝能力
隨著膠囊化封裝的先進微電子機械系統(tǒng)(MEMS)和互補金屬氧化物半導體(CMOS)成像器件產(chǎn)量的加速提升。
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