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Intel/臺積電/ASML齊捧EUV光刻：捍衛(wèi)摩爾定律

日前，中國國際半導體技術(shù)大會（CSTIC）在上海開幕，為期19天，本次會議重點是探討先進制造和封裝。其中，光刻機一哥ASML（阿斯麥）的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一

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2020-07-17

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共話“新計算時代”的機遇與挑戰(zhàn)，應用材料公司亮相SEMICON China 2020

2020年6月22日，上?！猄EMICON China 2020將于6月27—29日在上海新國際博覽中心舉辦。

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2020-06-22

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