2018年9月4日，三星電子公司的一家芯片工廠發(fā)生二氧化碳泄露事故。截至2018年9月4日，故事該導致一名工人死亡，兩名工人受傷。

三星在一份聲明中稱，這三人在其水原市半導體工廠的地下室里被發(fā)現(xiàn)失去意識。一名24歲的男性工人在被送往醫(yī)院幾個小時后宣布死亡，另外兩名年齡為26歲、54歲的工人依然處于無意識狀態(tài)。這些員工均來自三星旗下一家供應(yīng)商。

毒氣泄漏事件三星已經(jīng)不止一次了，2012年2月，韓國時報就曾報道稱，韓國職業(yè)安全的調(diào)查研究院一份歷時三年的調(diào)查顯示，三星、海力士半導體公司以及仙童半導體公司的工廠生產(chǎn)線被檢測出含有一定數(shù)量的苯、砷、甲醛等致癌物質(zhì)。當時，該研究院的負責人樸正善表示， “盡管它們的含量還不足以致癌，但已經(jīng)足夠令人擔憂，這些工廠必須盡最大努力將這些含量降到最低”。

2013年1月，同在水原的三星芯片工廠發(fā)生氫氟酸泄漏事故，10升強烈腐蝕性的氫氟酸揮發(fā)在空氣中，造成五名工人1死4傷。事件發(fā)生后，三星公司被罰款1000美元。

在2014年3月在京畿道水原市的三星電子研發(fā)中心一名52歲的三星合同工在工作時也是因為二氧化碳氣體泄露死亡，當時的調(diào)查結(jié)果是，滅火系統(tǒng)的故障導致了氣體泄露。

一座半導體廠所可能使用的氣體約為30種上下，其氣體的規(guī)格會隨制程要求而有不同;但通?？煞譃橛昧枯^大的一般氣體(Bulk Gas)，及用量較小的特殊氣體(Special Gsa)二大類。在一般氣體方面，包括有N2, O2, Ar, H2等。另在特殊氣體上，可略分為下述三大類：

(1)  惰性氣體(Inert Gas)的He, SF6,CO2, CF4, C2F6, C4H8及CH3F等;

(2) 燃燒性氣體(Flammable Gas)的SiH4,Si2H6, B2H6, PH3, SiH2Cl2, CH3, C2H2及CO等。

(3) 腐蝕性氣體(Corrosive Gas)的Cl2,HCl, F2, HBr, WF6, NH3, BF2, BCl3, SiF4, AsH3, ClF3, N2O, SiCl4等。

實際上，有些氣體是兼具燃燒及腐蝕性的。其中除惰性氣體外，剩下的均歸類為毒性氣體。SiH4,B2H6,PH3等均屬自燃性氣體(Pyrophoricity)，即在很低的濃度下，一接觸大氣后，立刻會產(chǎn)生燃燒的現(xiàn)象。而這些僅是一般晶圓廠的氣源而已，若是實驗型的氣源種類，則將更為多樣性。

半導體大廠在保證產(chǎn)值的同時，怎樣處理污染物，如何保障工人的安全也是考量一個企業(yè)的文化所在。