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[導讀]2020年11月,內存和存儲解決方案領先供應商Micron Technology Inc.(美光)宣布推出全球首款 176層3D NAND閃存,一舉刷新行業(yè)紀錄,實現(xiàn)了閃存產品密度和性能的重大提升。得益于在性能、容量、尺寸和成本上的優(yōu)勢,美光176層3D NAND閃存能夠滿足數(shù)據(jù)中心、智能邊緣平臺和移動設備等一系列應用不斷提高的存儲需求。近日,21IC邀請到美光的技術專家向讀者詳細解讀了176層 3D NAND閃存背后的技術亮點。

2020年11月,內存和存儲解決方案領先供應商Micron Technology Inc.(美光)宣布推出全球首款176層3D NAND閃存,一舉刷新行業(yè)紀錄,實現(xiàn)了閃存產品密度和性能的重大提升。得益于在性能、容量、尺寸和成本上的優(yōu)勢,美光176層3D NAND閃存能夠滿足數(shù)據(jù)中心、智能邊緣平臺和移動設備等一系列應用不斷提高的存儲需求。近日,21IC邀請到美光的技術專家向讀者詳細解讀了176層 3D NAND閃存背后的技術亮點。

1.近年來,美光越來越重視NAND閃存技術。請向我們介紹一下美光NAND閃存技術有哪些創(chuàng)新?

40多年來,從DRAM到閃存,包括NAND和NOR,美光一直是存儲技術領域的行業(yè)專家。2015年,美光和英特爾率先推出了創(chuàng)新的3D NAND閃存技術,與其他量產的NAND裸片相比,該技術實現(xiàn)了當時業(yè)界的最高容量。3D NAND的數(shù)據(jù)存儲單元是一層一層垂直堆疊的,這使得存儲器的設計方式發(fā)生了根本性的轉變。由于容量通過存儲單元的垂直堆疊來實現(xiàn),單個存儲單元的尺寸因而能有很大提升。這一創(chuàng)新同時提高了NAND閃存的性能和續(xù)航,同時也降低了成本。此后,美光不斷推動3D NAND技術的演進,從最初的32層設計發(fā)展至業(yè)界領先的176層設計。與此同時,美光繼續(xù)使用創(chuàng)新的CMOS陣列下(CuA)技術,在提升容量和性能的同時,增加了設計的靈活性。

2.為什么美光會在3D NAND中采用CMOS陣列下(CuA)技術?

2015年,美光與英特爾合作,將CMOS陣列下技術引入NAND存儲市場。這一工藝即在邏輯陣列上構建閃存層,那么在設計NAND閃存芯片時,NAND存儲器電路區(qū)域就不再需要為CMOS邏輯留出空間。生產中NAND裸片尺寸也因此減小,從而增加了單位面積中的總存儲容量。憑借CuA技術,3D NAND的生產設計在容量提升上獲得了更大的靈活性,產生了更多創(chuàng)新,也使具有成本優(yōu)勢成為可能。

3.最初的3D NAND產品是基于傳統(tǒng)浮動柵極NAND架構。為什么美光最近要從浮動柵極設計轉向3D替換柵極(RG)技術?

替換柵極(RG)NAND是一種創(chuàng)新的存儲架構,有助于滿足不斷增長的存儲需求。使用RG NAND使性能、電源效率和容量的限制均得以消除,這是存儲技術的重要變革。與傳統(tǒng)浮動柵極NAND相比,美光3D RG NAND能提供更長的耐久壽命、更高的電源效率、更大的存儲容量和更快的性能。

4.能否介紹一下美光176層3D NAND技術的重要性?

美光的176層NAND是3D NAND技術的又一個重要里程碑,因為采用這一技術的閃存密度接近第一代3D NAND閃存的10倍。美光新的176層技術和其先進的架構代表了一項重大突破,使數(shù)據(jù)中心、智能邊緣平臺和移動設備等一系列存儲應用從中受益,實現(xiàn)了性能上的巨大提升。

美光的176層NAND采用了美光第五代3D NAND技術和第二代替換柵極架構,是市場上最先進的 NAND技術節(jié)點。與美光的上一代大容量3D NAND相比,176層NAND將數(shù)據(jù)讀取和寫入延遲縮短了35%以上,極大地提高了應用的性能。此外,美光的176 層 NAND繼續(xù)使用創(chuàng)新的CMOS陣列下設計(CuA),這種架構使其更具有成本優(yōu)勢。

5.與其他新技術相比,為什么美光能夠在如此短的時間內將176層NAND從設計階段快速應用到生產階段?

美光長久以來在推動新設計快速投放市場方面有著優(yōu)良傳統(tǒng)。美光正在與業(yè)界開發(fā)者合作,將新產品快速集成到解決方案中。其中一種加速量產的途徑是簡化固件開發(fā)。美光 176 層 NAND 提供單流程編程算法,使集成更為簡便,從而加快上市速度。此外, 176 層 NAND的接口符合ONFI(開放式NAND閃存接口)協(xié)議,美光為新特性增加了向后兼容能力。得益于這種向后兼容性,可以更穩(wěn)健且快速地將新產品集成到解決方案。

6.3D NAND的堆疊層數(shù)從64提升到96,再到128,為什么最新一代的層數(shù)是176?

3D NAND的層數(shù)并沒有行業(yè)“標準”,層數(shù)的確定一般因閃存供應商而異。不過,行業(yè)的頂級閃存供應商大多從96層提升到128層,再到176層,大約增加了1/3,這與平面硅節(jié)點占節(jié)點面積的減少是一致的。

7.采用176層NAND和PCIe 4.0的固態(tài)硬盤(SSD)能帶來哪些升級的用戶體驗?

PCIe 4.0將SSD與主機之間每通道的最大IO帶寬提高了一倍。美光的176層NAND增加了讀寫帶寬,并提高了從裸片到SSD內控制器的最大IO速度。這種組合為能夠充分利用帶寬的應用帶來了最佳性能。

8.哪些細分市場將受益于美光的176層NAND技術?

美光的176層NAND技術使產品的容量和續(xù)航同時得到顯著提升,尤其受益各種寫入密集型應用,例如航空航天領域的黑匣子及視頻監(jiān)控錄像等。在移動存儲中,176 層NAND的替換柵極架構可將混合工作負載性能提高15%,從而更好地支持超快速邊緣計算、增強型人工智能推理,以及高品質圖像顯示的實時多人游戲。我們期待176層NAND技術能夠廣泛應用于各式各樣的電子設備中(包括云存儲的基本構建塊)。

9.展望未來,3D NAND技術垂直堆疊的層數(shù)是否會有極限?堆疊更高層數(shù)面臨著哪些挑戰(zhàn)?美光NAND閃存的未來計劃是什么?

與所有技術一樣,當前的3D NAND架構對層數(shù)最終會有極限。隨著時間的推移,需要進一步的創(chuàng)新來實現(xiàn)更高的堆疊層數(shù)。此外,在實際生產中,制造成本和良率損失有朝一日也會阻礙層數(shù)的提升。然而,美光將在未來幾代產品中繼續(xù)保持3D NAND的擴展性,以及成本的降低。我們已經在為176層的下一節(jié)點進行早期開發(fā),并為后幾代產品進行技術探索。此外,我們還將致力于擴大QLC(四級單元)的領導地位,以加速固態(tài)硬盤取代普通硬盤(HDD)的進程。

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