極紫外線光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。

這一年多來，全球半導(dǎo)體產(chǎn)能緊張，臺積電等芯片制造公司也在積極擴(kuò)大產(chǎn)能，光刻機(jī)之類的設(shè)備很搶手，在這個關(guān)鍵時刻，全球光刻機(jī)一哥ASML的工廠發(fā)生火災(zāi)，目前損失還在評估中。

據(jù)報道，ASML公司在德國柏林的工廠突然發(fā)生了火災(zāi)，目前可以確認(rèn)沒有人員傷亡，但具體的損失情況還不確定。

ASML公司在給媒體發(fā)布的聲明中指出，評估損失需要幾天時間，現(xiàn)在就提出是否影響今年業(yè)績或者就損害索賠等問題還為時尚早。

起火的公司前身是Berliner Glas，ASML公司2020年才收購了這家公司，后者主要為ASML光刻機(jī)制造光學(xué)系統(tǒng)，這是光刻機(jī)的三大核心部件之一。

2021年10月底，ASML發(fā)布了Q3財報，凈銷售額52億歐元(約合386億元)，毛利率51.7%，凈利潤17億歐元(約合126億元)。官方預(yù)計四季度銷售額49億到52億歐元，毛利率在51%到52%。

ASML稱，三季度，EUV光刻機(jī)系統(tǒng)的訂單量達(dá)到了29億歐元，且當(dāng)季的出貨量和收入創(chuàng)下歷史新高。目前，ASML主力EUV光刻機(jī)是TWINSCAN NXE:3600D，其在客戶那里也達(dá)到了每小時加工160片晶圓的創(chuàng)紀(jì)錄效率。

DUV(深紫外)光刻機(jī)方面，完成出貨1000臺ArF(氟化氬浸沒式光刻系統(tǒng))，這距離第一臺浸沒式光刻機(jī)(XT:1700Fi)出貨過去了15年。