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[導(dǎo)讀]據(jù)韓國媒體koreaherald報道稱,三星電子的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商——Semes的兩名前雇員因涉嫌參與竊取技術(shù)而被起訴。據(jù)韓國水原地區(qū)檢察官辦公室周二稱,這兩名 Semes 前員工涉嫌向一家未公開的中國實(shí)體出售關(guān)鍵的晶圓清洗機(jī)——據(jù)信與 Semes 的設(shè)備相同。這兩名Semes 前員工和 Semes 的供應(yīng)商的另外兩名員工被檢察官以違反《防止不正當(dāng)競爭和商業(yè)秘密保護(hù)法》的罪名起訴。

據(jù)韓國媒體koreaherald報道稱,三星電子的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商——Semes的兩名前雇員因涉嫌參與竊取技術(shù)而被起訴。據(jù)韓國水原地區(qū)檢察官辦公室周二稱,這兩名 Semes 前員工涉嫌向一家未公開的中國實(shí)體出售關(guān)鍵的晶圓清洗機(jī)——據(jù)信與 Semes 的設(shè)備相同。這兩名Semes 前員工和 Semes 的供應(yīng)商的另外兩名員工被檢察官以違反《防止不正當(dāng)競爭和商業(yè)秘密保護(hù)法》的罪名起訴。

據(jù)透露,包括兩名前 Semes 工程師在內(nèi)的四名嫌疑人通過將專門提供給三星的Semes設(shè)備移交給中國實(shí)體,從而獲得了 800 億韓元(6280 萬美元)的收入。報道稱,該設(shè)備被認(rèn)為是三星尖端半導(dǎo)體芯片技術(shù)的關(guān)鍵。在芯片制造過程的最初階段,使用清潔設(shè)備保持晶圓的清潔至關(guān)重要。隨著晶圓變得更薄,該工藝需要更復(fù)雜的方法??朔夹g(shù)障礙的方法之一是設(shè)備使用超臨界流體狀態(tài)的二氧化碳來清潔晶圓,與使用其他流體(如超純水)清潔相比,這大幅減少了對晶圓的損壞。據(jù)SEMES官網(wǎng)介紹,其SUPER CRYSTAL系列清洗機(jī)是世界第一臺超臨界設(shè)備,采用無傾斜技術(shù)(高萃取/高溶解度),具備高通量和穩(wěn)定性,能夠去除19nm的顆粒。

據(jù) TheElec 報道,三星電子的芯片制造設(shè)備子公司 Semes 周五表示,其 2021 年全年的收入為 3.12 萬億韓元(約 161.93 億元人民幣),營業(yè)利潤為 3533 億韓元(約 18.34 億元人民幣)。這是該公司迄今為止最好的年度業(yè)績。與 2020 年相比,收入和營業(yè)利潤也分別增長了 41% 和 24%,這是其目前最高的年度收益。Semes 表示,晶圓廠設(shè)備占其 2021 年收入的 75%,而平板顯示設(shè)備占 1.7%。2020 年,晶圓廠設(shè)備占其年收入的 61.24%,而平板顯示設(shè)備占 9.9%。

集成電路產(chǎn)業(yè)鏈包括設(shè)計(jì)、制造、封裝測試三個環(huán)節(jié),其中制造需要由多種集成電路設(shè)備來實(shí)現(xiàn)?,F(xiàn)在,全球晶圓廠持續(xù)擴(kuò)張,對設(shè)備需求進(jìn)一步加大,中國大陸地區(qū)的需求尤為強(qiáng)烈,2020年中國大陸地區(qū)已成為全球最大集成電路設(shè)備市場。集成電路的多層堆棧技術(shù)與鰭型柵晶體管技術(shù)的廣泛應(yīng)用導(dǎo)致對設(shè)備需求進(jìn)一步加大。作為全球最大的消費(fèi)半導(dǎo)體和半導(dǎo)體設(shè)備市場,以光刻機(jī)為代表的半導(dǎo)體設(shè)備一直是中國半導(dǎo)體行業(yè)“卡脖子”的關(guān)鍵詞和揮之不去的痛。但隨著清洗設(shè)備、薄膜設(shè)備等國產(chǎn)設(shè)備的不斷突破,國產(chǎn)設(shè)備在各個高端領(lǐng)域?qū)⒑芸煊瓉碜汾s。

清洗設(shè)備是貫穿半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的重要環(huán)節(jié),用于清洗原材料及每個步驟中半成品上可能 存在的雜質(zhì),避免雜質(zhì)影響成品質(zhì)量和下游產(chǎn)品性能,在單晶硅片制造、光刻、刻蝕、沉積等關(guān)鍵制程及封裝工藝中均為必要環(huán)節(jié)。

隨著集成電路制程工藝節(jié)點(diǎn)越來越先進(jìn),對實(shí)際制造的幾個環(huán)節(jié)也提出了新要求,清洗 環(huán)節(jié)的重要性日益凸顯。清洗的關(guān)鍵性則是由于隨著特征尺寸的不斷縮小,半導(dǎo)體對雜質(zhì)含量越來越敏感,而半導(dǎo)體制造中不可避免會引入一些顆粒、有機(jī)物、金屬和氧化物 等污染物。為了減少雜質(zhì)對芯片良率的影響,實(shí)際生產(chǎn)中不僅僅需要提高單次的清洗效 率,還需要在幾乎所有制程前后都頻繁的進(jìn)行清洗,清洗步驟約占整體步驟的 33%。

同全球半導(dǎo)體設(shè)備市場一樣,全球半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場呈現(xiàn)著高度壟斷、強(qiáng)者恒強(qiáng)的局 面。目前,國際上共有 5 家企業(yè)在生產(chǎn)單晶片清洗設(shè)備,分別是 Screen Semiconductor Solutions,Tokyo Electron,Lam Research,SEMES 和 ACM。在整個清洗設(shè)備市場,日本公司占據(jù)了主導(dǎo),約 60%的市場份額由日本 Screen(迪恩士)占據(jù),30%的市場 份額被日本 Tokyo Electron(東京電子)占據(jù)。半導(dǎo)體高端材料方面,日本長期保持絕對優(yōu)勢,日本是全球最大的半導(dǎo)體材料生產(chǎn)國,其中,高純度氟化氫是半導(dǎo)體清洗制程 中必備材料,日本在全球市占率為 70%。

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