光刻機(lithography)又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

7月6日，外交部發(fā)言人趙立堅主持例行記者會。有記者提問，美方稱要求荷蘭禁止向中方出口用于制造芯片的光刻機技術，你對此有何評論?如果這個公司按美國的要求這么做的話，中方是否會對美方或者是荷蘭的相關公司采取反制措施?

趙立堅指出，這是美方濫用國家力量、倚仗技術霸權搞脅迫外交的又一例證。這也是典型的技術恐怖主義。在當前全球化背景下，美方一再將科技和經(jīng)貿(mào)問題政治化、工具化、意識形態(tài)化，對別國搞技術封鎖、技術脫鉤，這只會讓其他國家更加警醒。在技術上一味依靠美國行不通，這也將促使各國加快實現(xiàn)科技自主、自立自強。

趙立堅稱，企圖堵別人的路，最終只會堵死自己的路。我們希望美方秉持客觀公正立場，從自身長遠利益和公平公正市場原則出發(fā)，能夠做出相應的決定。我們也相信有關方面能夠保持獨立自主，能夠做出獨立的決定。

美國正在推動荷蘭政府禁止ASML向中國大陸出售包括DUV光刻機在內(nèi)的設備，試圖通過卡住芯片制造的“喉嚨”來擴大其遏制中國大陸崛起的行動。

目前ASML已經(jīng)無法向中國大陸出售其最先進的極紫外(EUV)光刻系統(tǒng)，單臺售價高達1.6億歐元(1.64億美元)，因為它無法獲得荷蘭政府的出口許可證。

如果荷蘭同意，這將大大擴大現(xiàn)在禁止進入中國大陸的芯片制造設備的范圍和類別，這可能對從中芯國際到華虹半導體等中國大陸芯片制造商造成嚴重的沖擊。

ASML CEOPeter Wennink今年早些時候曾表示，不希望禁止向中國大陸客戶銷售DUV光刻設備。截止發(fā)稿，ASML的美國存托憑證跌幅擴大到了8.3%，這是自2020年3月以來的最大盤中跌幅。

在半導體生產(chǎn)中，光刻機是核心設備，它不僅決定了芯片制造的工藝水平，而且是耗時最多、成本最高的一步，目前先進的7nm、5nm及接下來的3nm、2nm都需要EUV光刻機，一臺這樣的光刻機售價將近10億人民幣，但目前還是供不應求。

目前，荷蘭的ASML公司可以生產(chǎn)光刻機，他們的產(chǎn)能將決定全球先進工藝擴張的速度，所以代工龍頭臺積電、三星半年以來也在因為爭搶最先進光刻機打的不可開交。

不難看出，光刻機是如今半導體行業(yè)的命脈，那這個命脈為什么被ASML所掌控?

作為制造芯片最先進的設備，光刻機的先進程度直接決定了芯片的制程工藝。ASML發(fā)言人稱，更高的光刻分辨率將允許芯片縮小170%，同時密度增加2.9倍。未來比3nm更先進的工藝將極度依賴高NA EUV光刻機。

隨著芯片越來越精密，更高數(shù)值的孔徑意味著更小的光線入射角度，也意味著能夠用來制造尺寸更小、速度更快的芯片。三星、臺積電都希望通過獲得下一代EUV光刻機，從而在未來2nm技術競爭上占據(jù)優(yōu)勢。

近日，韓國三星電子副會長李在镕又馬不停蹄奔赴歐洲，外媒報道，三星電子副董事長李在镕已結(jié)束與 ASML 公司的會談，并就韓國三星引進下一代高數(shù)值孔徑 High-NA EUV 光刻設備達成了協(xié)議。High-NA EUV 作為 ASML 公司的下一代光刻設備，與 EUV 光刻設備相比，雕刻出的電路更為精細。而一臺High-NA EUV 光刻設備的價格估計為 5000 億韓元(約 25.85 億元人民幣)，是現(xiàn)有 EUV 光刻設備價格的兩倍。盡管如此，三星也在試圖購進多至10臺機器，有韓國業(yè)內(nèi)人士表示：如果三星采購 10 臺 High-NA EUV 光刻設備，將花費超過 5 萬億韓元(約 258.5 億元人民幣)，因此政府可能會下場支持。

三星這么做，也是為了盡快追趕臺積電。6月17日臺積電舉行的技術論壇上，作為晶圓代工龍頭的臺積電首次披露，到2024年，臺積電將擁有ASML最先進的高數(shù)值孔徑極紫外high-NA EUV光刻機，用于生產(chǎn)納米片晶體管(GAAFET)架構(gòu)的2nm(N2)芯片，預計在2025年量產(chǎn)。

盡管臺積電業(yè)務開發(fā)資深副總經(jīng)理張曉強稱，臺積電2024年還不準備運用新的高數(shù)值孔徑EUV工具生產(chǎn)，引進的光刻機將主要用于與合作伙伴的研究，但臺積電此次成功引進最先進的光刻機，無疑將進一步鞏固自身在先進制程研發(fā)方面的領先地位。

ASML公司作為一家高端的光刻機制造公司，擁有光刻機的整個生產(chǎn)制造鏈，致力于打造自己的一體化光刻機制造流程。一開始其實ASML也是一個名不見經(jīng)傳的小公司，從一點一滴做起來的，經(jīng)過了十幾年的研發(fā)之路，ASML公司才開始在光刻機領域展露風頭。而后，ASML公司越做越大，躋身到了光刻機的一線梯隊。在后來，ASML公司率先研制出了EUV光刻機，這使得了自己一躍變成了光刻機制造行業(yè)的“老大哥”，開始在國際上名聲四起。

有一句話說得好，當一個人站在巔峰的時候，也是他要開始走下坡路的時候了。外媒目前對于ASML都一致不看好，表示：“ASML的時代正在宣告結(jié)束?！蹦敲矗烤故前l(fā)生了什么事使得外界有如此看法呢?

目前，很多芯片廠商都已經(jīng)暫停了對新型芯片的工藝升級，就拿蘋果為例，目前最新款的蘋果13仍然使用的是A15芯片，而Pro使用的則是A16芯片，而蘋果官宣下款新手機仍然會使用A15，而不會大量替換為A16。從目前的情況來說，5nm的芯片已經(jīng)能夠滿足新型手機以及電子設備的需求了，再大量更換最新的芯片也并不會有質(zhì)的飛躍，所以很多公司為了節(jié)省成本，暫停了對新型芯片的更換升級。那么，取消了對新型芯片的研發(fā)工作，自然就用不到最新款的光刻機了，因此ASML公司會比較難受。

并且，ASML公司的EUV光刻機成本巨大，一款EUV光刻機的成本就要數(shù)十億，很多公司對此都望而卻步。而我國公司更是通過技術手段實現(xiàn)了不用EUV光刻機也能制造芯片的能力。這些年，很多半導體業(yè)界都開始推廣NIL光刻機，這是一款價格便宜耗電少，但是性能與EUV幾乎相差無幾的光刻機，所以遭到了很多企業(yè)的喜愛。這也就表示ASML公司的EUV光刻機將會失去更多的市場。