制裁中興、制裁華為，深深讓國(guó)人感受到了中國(guó)在半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域的薄弱。美國(guó)對(duì)中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)鏈的精準(zhǔn)打擊，更是讓國(guó)人認(rèn)識(shí)到了中國(guó)在芯片制造設(shè)備領(lǐng)域的薄弱。

而對(duì)于芯片制造來說，最為關(guān)鍵的設(shè)備當(dāng)屬光刻機(jī)。

光刻機(jī)按照用途可以分為IC 前道光刻機(jī)、封裝光刻機(jī)、面板光刻機(jī)以及 LED/MEMS/功率器件光刻機(jī)。而我們經(jīng)常所說的芯片制造所使用的則是IC前道光刻機(jī)。

資料顯示，光刻工藝是芯片制造過程中占用時(shí)間比最大的步驟，約占芯片制造總時(shí)長(zhǎng)的40%-50%。同時(shí)，光刻機(jī)也是目前晶圓制造產(chǎn)線中成本最高的半導(dǎo)體設(shè)備，約占晶圓生產(chǎn)線設(shè)備總成本的27%。目前最先進(jìn)的 EUV 設(shè)備在2018 年單臺(tái)平均售價(jià)高達(dá) 1.04 億歐元。

28nm光刻機(jī)，中國(guó)已拿到“入場(chǎng)券”！可制造7nm芯片！

(先看視頻)

近日，央視財(cái)經(jīng)專題節(jié)目《而立浦東》，報(bào)道了上海微電子的最新進(jìn)展。一臺(tái)上海微自研的光刻機(jī)將發(fā)貨。

關(guān)于這臺(tái)光刻機(jī)的具體信息不多。結(jié)合上海微最新官宣信息，這臺(tái)光刻機(jī)基本確定是28nm工藝的。

什么是光刻機(jī)？它是制造集成電路，也就是芯片制造最關(guān)鍵的設(shè)備之一。每顆芯片誕生之始，都要經(jīng)過光刻機(jī)的鍛造。光刻機(jī)利用光刻工藝，將母版上復(fù)雜的電路設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)化為硅片上的電路。

可以說，如果沒有“中國(guó)光刻機(jī)”，那么制造“中國(guó)芯”也就無從談起。

中國(guó)早在18年前，02專項(xiàng)中就制定了光刻機(jī)突破的時(shí)間節(jié)點(diǎn)，2020年實(shí)現(xiàn)28nm光刻機(jī)的自主研發(fā)。

在02專項(xiàng)光刻機(jī)項(xiàng)目中，設(shè)定的時(shí)間為2020年驗(yàn)收193nmArF浸沒式DUV光刻機(jī)， 對(duì)標(biāo)產(chǎn)品為ASML現(xiàn)階段最強(qiáng)DUV光刻機(jī): TWINSCAN NXT:2000i。

以NXT:2000i為例， 各子系統(tǒng)拆分如下：上海微電子負(fù)責(zé)光刻機(jī)設(shè)計(jì)和總體集成，北京科益虹源提供光源系統(tǒng)，北京國(guó)望光學(xué)提供物鏡系統(tǒng)，國(guó)科精密提供曝光光學(xué)系統(tǒng)，華卓精科提供雙工作臺(tái)，浙江啟爾機(jī)電提供浸沒系統(tǒng)。

這臺(tái)28nm光刻機(jī)，是集全中國(guó)最牛公司的智慧結(jié)晶，中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈成熟的真正家底。

193納米ArF浸沒式DUV光刻機(jī)，其制程工藝為28納米。

更重要的是這臺(tái)國(guó)產(chǎn)193納米ArF浸沒式DUV光刻機(jī)在經(jīng)過多重曝光下，最高可實(shí)現(xiàn)7nm芯片量產(chǎn)，雖然還無法媲美目前最頂尖的EUV光刻機(jī)設(shè)備，但這套國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)設(shè)備誕生，絕對(duì)可以完成絕大部分芯片生產(chǎn)。

ASML同時(shí)表態(tài)：DUV可供應(yīng)中國(guó)！堅(jiān)決不放棄中國(guó)市場(chǎng)！

美國(guó)以“國(guó)家安全”為由恐嚇、威脅、制裁中國(guó)集成電路技術(shù)自主；光刻機(jī)作為全球高科技智慧的結(jié)晶，一直受制于美國(guó)法律。ASML雖有心供應(yīng)中國(guó)，但受限于美國(guó)法律，最先進(jìn)的EUV產(chǎn)品出口，ASML有心無力。

目前全球絕大多數(shù)半導(dǎo)體生產(chǎn)廠商，都向ASML采購(gòu)TWINSCAN機(jī)型，比如英特爾（Intel）、三星（Samsung）、海力士（Hynix）、臺(tái)積電（TSMC）、中芯國(guó)際（SMIC）等。

雖受美國(guó)禁令影響，ASML在中國(guó)進(jìn)博會(huì)宣布，可銷售DUV光刻機(jī)。這是在向中國(guó)、向全球表明態(tài)度，堅(jiān)決不放棄中國(guó)市場(chǎng)

ASML的DUV光刻機(jī)不受美國(guó)法律影響，順利供應(yīng)中國(guó)，很能說明問題，中國(guó)上海微28nm光刻機(jī)已經(jīng)成熟，EUV技術(shù)再無提防中國(guó)的必要。

美國(guó)對(duì)我們的技術(shù)封鎖方式一直沒變過，只要我們研究出來自己的技術(shù)，就開始打開大門！

28nm作為當(dāng)前關(guān)鍵技術(shù)節(jié)點(diǎn)的性能和技術(shù)優(yōu)勢(shì)，光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)替代將迎來新的曙光，打破美國(guó)壟斷制裁。

28nm光刻裝備的成熟，就是中國(guó)進(jìn)入7nm高階芯片的臨門一腳。

集結(jié)優(yōu)勢(shì)力量，“自主7nm”3年可望成熟。

之前，全球前道光刻機(jī)被ASML、尼康、佳能壟斷，中國(guó)根本靠不上邊，上海微光刻機(jī)的突破，給中國(guó)自主7nm帶來機(jī)會(huì)。

我們認(rèn)為光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)替代將迎來新的曙光，尤其是IC前道制造領(lǐng)域，將初步打破國(guó)外巨頭完全壟斷的局面，實(shí)現(xiàn)從0到1的突破。

刻蝕機(jī)、光刻機(jī)、光刻膠，中國(guó)相繼單點(diǎn)突破，由點(diǎn)及面，中國(guó)7nm之路正在一步一步被打開。

7nm都以為中國(guó)被卡脖子，但很多人還沒意識(shí)到這一點(diǎn)，還沉醉在光刻機(jī)ASML獨(dú)一份的舊夢(mèng)中。

中國(guó)28nm光刻機(jī)的突破，迫使美國(guó)同意ASML DUV光刻機(jī)可供應(yīng)中國(guó)。背后壓力有中芯國(guó)際7nm工藝的突破、上海微DUV光刻機(jī)的成熟、中國(guó)政策資本不計(jì)代價(jià)的投入。

中芯國(guó)際利用ASML DUV光刻機(jī)制造出7nm芯片的事情，已被大眾熟知。同時(shí)，上海微的28nm DUV光刻機(jī)制造成功，中芯國(guó)際用上國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的時(shí)間不會(huì)太久。

中芯國(guó)際利用ASML DUV光刻機(jī)研發(fā)7nm的技術(shù)積累，改換上上海微DUV光刻機(jī)，這個(gè)時(shí)間同樣不會(huì)太久。

2021年，我們就有望看到中芯國(guó)際用上國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)研發(fā)7nm。保守點(diǎn)兒講，再加上一年的技術(shù)積累，小編相信，在政府不計(jì)成本的投入，2023年我們或可看到中國(guó)自主7nm芯片的下線。

芯片要擺脫壟斷，只有將技術(shù)牢牢地掌握在自己的手中，那么芯片局面才有可能扭轉(zhuǎn)。

集結(jié)資本技術(shù)優(yōu)勢(shì)力量，中國(guó)產(chǎn)業(yè)鏈自主，我相信3年即可成熟突破。