日前有報道稱，ASML將面向中國市場推出特別版DUV光刻機，不過此事已經(jīng)辟謠，ASML表示一直以來ASML都遵守所適用的法律條例，公司并沒有面向中國市場推出特別版的光刻機。

此前消息稱，ASML推出的特別版DUV光刻機基于TwinscanNXT:1980Di光刻系統(tǒng)改造，而1980Di是10年前推出的舊型號，不在本次官方禁令范圍內(nèi)。

1980Di是ASML現(xiàn)有效率比較低的光刻機，支持NA1.35光學器件、分辨率可以達到<38nm，理論上可以支持7nm工藝。

大多數(shù)晶圓廠使用1980Di光刻機，主要生產(chǎn)14nm及以上工藝芯片，很少使用其生產(chǎn)7nm芯片。

最近荷蘭發(fā)布新規(guī)定，企業(yè)出口先進設備需要申請許可，9月1日后生效。

ASML表示，根據(jù)新出口管制條例規(guī)定，該公司需要向荷蘭政府申請出口許可證才能發(fā)運最先進的浸潤式DUV系統(tǒng)(即TWINSCANNXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng))。

荷蘭政府將決定是否授予或拒發(fā)出口許可證，并將向ASML提供許可證所附條件的細節(jié)。