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[導(dǎo)讀]EDA(Electronic Design Automation)技術(shù),即電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化,是電子設(shè)計(jì)與制造技術(shù)發(fā)展中的核心,用于支持從電路設(shè)計(jì)到布局和布線的整個(gè)過程。EDA技術(shù)的發(fā)展歷程可以追溯到20世紀(jì)70年代,當(dāng)時(shí)由于集成電路的規(guī)模較小,設(shè)計(jì)師可以通過手工操作完成電路圖的輸入、布局和布線。然而,隨著集成電路規(guī)模的逐步擴(kuò)大和電子系統(tǒng)日趨復(fù)雜,手工設(shè)計(jì)的效率低下,錯(cuò)誤率也較高,這時(shí)候EDA技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生。

EDA(Electronic Design Automation)技術(shù),即電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化,是電子設(shè)計(jì)與制造技術(shù)發(fā)展中的核心,用于支持從電路設(shè)計(jì)到布局和布線的整個(gè)過程。EDA技術(shù)的發(fā)展歷程可以追溯到20世紀(jì)70年代,當(dāng)時(shí)由于集成電路的規(guī)模較小,設(shè)計(jì)師可以通過手工操作完成電路圖的輸入、布局和布線。然而,隨著集成電路規(guī)模的逐步擴(kuò)大和電子系統(tǒng)日趨復(fù)雜,手工設(shè)計(jì)的效率低下,錯(cuò)誤率也較高,這時(shí)候EDA技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生。

EDA技術(shù)的發(fā)展可以分為幾個(gè)階段。首先是計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)(CAD)階段,這個(gè)階段主要是為了實(shí)現(xiàn)電路圖的手動(dòng)輸入和布局布線的自動(dòng)化。然后是計(jì)算機(jī)輔助工程(CAE)階段,這個(gè)階段引入了邏輯模擬、定時(shí)分析和故障分析等功能,實(shí)現(xiàn)了功能檢測(cè)等問題。

特別值得一提的是,1980年加州理工學(xué)院教授Carver Mead和全錄帕洛阿爾托研究中心的程式設(shè)計(jì)師Lynn Conway共同發(fā)表了具有劃時(shí)代意義的論文《超大規(guī)模集成電路系統(tǒng)導(dǎo)論》,提出了通過編程語言來進(jìn)行芯片設(shè)計(jì)的新思想,從而啟發(fā)了VHDL和Verilog等工具的誕生。這些工具的使用使得芯片設(shè)計(jì)師的工作變得更加簡(jiǎn)單,是EDA商業(yè)化中的重要推動(dòng)力?,F(xiàn)在,EDA技術(shù)已經(jīng)廣泛應(yīng)用于電子、通信、化工、航空航天、生物等各個(gè)領(lǐng)域,很大程度上減輕了相關(guān)從業(yè)者的工作強(qiáng)度。

EDA技術(shù)的發(fā)展歷程可以分為以下幾個(gè)階段:

起步階段:20世紀(jì)70年代,由于當(dāng)時(shí)芯片的復(fù)雜度低,芯片設(shè)計(jì)人員可以通過手工操作完成電路圖的輸入、布局和布線。這一時(shí)期內(nèi),Applicon、CALMA和ComputerVision等公司主導(dǎo)著CAD/CAM市場(chǎng)。

發(fā)展階段:20世紀(jì)80年代,隨著集成電路的發(fā)展,尤其是ASIC(商用專用集成電路)的出現(xiàn),讓設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)可以接觸到以前為大型系統(tǒng)OEM預(yù)留的定制芯片。在這個(gè)階段,Daisy Systems、Mentor Graphics和Valid Logic三家公司主導(dǎo)了當(dāng)時(shí)的CAE市場(chǎng)。此時(shí),EDA技術(shù)進(jìn)入發(fā)展和完善階段,推出了以邏輯模擬、定時(shí)分析、故障分析、自動(dòng)布局和布線為核心的EDA工具,重點(diǎn)解決功能檢測(cè)等問題。

成熟階段:到了20世紀(jì)90年代初,隨著技術(shù)的進(jìn)一步發(fā)展,高級(jí)語言描述開始應(yīng)用,ESDA(電子系統(tǒng)設(shè)計(jì)自動(dòng)化)當(dāng)?shù)?,并開啟了行業(yè)并購(gòu)。這個(gè)階段,Synopsys(新思科技)、Cadence(官方譯名楷登電子)和Mentor(現(xiàn)為Siemens EDA)成為了新三巨頭。至今,EDA技術(shù)仍在不斷發(fā)展和完善,以適應(yīng)不斷變化的集成電路和電子系統(tǒng)設(shè)計(jì)需求。

EDA 產(chǎn)品線介紹:

EDA 產(chǎn)品線繁多,根據(jù) EDA 工具的應(yīng)用場(chǎng)景不同,可以將 EDA 工具分為數(shù)字設(shè)計(jì)類、模擬設(shè)計(jì)類、晶圓制造類、封裝類、系統(tǒng)類等五大類,其中系統(tǒng)類又可以細(xì)分為 PCB、平板顯示設(shè)計(jì)工具、系統(tǒng)仿真及原型驗(yàn)證和 CPLD/FPGA設(shè)計(jì)工具等。

數(shù)字設(shè)計(jì)類工具主要是面向數(shù)字芯片設(shè)計(jì)的工具,一系列流程化點(diǎn)工具的集合,包括功能和指標(biāo)定義、架構(gòu)設(shè)計(jì)、RTL 編輯、功能仿真、邏輯綜合、靜態(tài)時(shí)序仿真(Static Timing Analysis,STA)、形式驗(yàn)證等工具。

模擬設(shè)計(jì)類工具主要面向模擬芯片的設(shè)計(jì)工具,包括版圖設(shè)計(jì)與編輯、電路仿真、版圖驗(yàn)證、庫(kù)特征提取、射頻設(shè)計(jì)解決方案等產(chǎn)品線。

晶圓制造類工具主要是面向晶圓廠/代工廠的設(shè)計(jì)工具,該類工具主要是協(xié)助晶圓廠開發(fā)工藝,實(shí)現(xiàn)器件建模和仿真等功能,生成 PDK 的重要工具,而PDK 是作為晶圓廠和設(shè)計(jì)廠商的重要橋梁的作用,可見 EDA工具和工藝綁定緊密,隨著摩爾定律的推進(jìn)需不斷升級(jí)迭代。晶圓制造類工具包括器件建模、工藝和器件仿真(TCAD)、PDK 開發(fā)與驗(yàn)證、計(jì)算光刻、掩膜版校準(zhǔn)、掩膜版合成和良率分析等。

封裝類工具主要是面向芯片封裝環(huán)節(jié)的設(shè)計(jì)、仿真、驗(yàn)證工具,包括封裝設(shè)計(jì)、封裝仿真以及 SI/PI(信號(hào)完整性/電源完整性)分析。隨著芯片先進(jìn)封裝技術(shù)發(fā)展以及摩爾定律往前推進(jìn),封裝形式走向高密度、高集成及微小化,因此對(duì)于封裝的要求和難度有較大提高,目前高性能產(chǎn)品需要先進(jìn)的集成電路封裝,如將多芯片的異質(zhì)集成封裝方式、基于硅片的高密度先進(jìn)封裝(HDAP)、FOWLP、2.5/3DIC、SiP 和 CoWoS 等。


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