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[導(dǎo)讀]業(yè)內(nèi)消息,AI年度大會(huì)英偉達(dá)GTC將于美國(guó)西部時(shí)間3月17日登場(chǎng),市場(chǎng)預(yù)估H200及B100將提前發(fā)布搶市。據(jù)了解,H200及新一代B100將分別采臺(tái)積電4nm及3nm制程,H200將于第二季上市,傳聞B100采用Chiplet設(shè)計(jì)架構(gòu)、已下單投片。

業(yè)內(nèi)消息,AI年度大會(huì)英偉達(dá)GTC將于美國(guó)西部時(shí)間3月17日登場(chǎng),市場(chǎng)預(yù)估H200及B100將提前發(fā)布搶市。據(jù)了解,H200及新一代B100將分別采臺(tái)積電4nm及3nm制程,H200將于第二季上市,傳聞B100采用Chiplet設(shè)計(jì)架構(gòu)、已下單投片。

法人指出,英偉達(dá)訂單強(qiáng)勁,臺(tái)積電3nm、4nm產(chǎn)能幾近滿載,首季運(yùn)營(yíng)淡季不淡。針對(duì)英偉達(dá)新一代芯片訂單占滿臺(tái)積電先進(jìn)制程一事,臺(tái)積電表示,產(chǎn)能制程仍依照上次法說(shuō)會(huì)所述內(nèi)容,不再做進(jìn)一步說(shuō)明。

據(jù)報(bào)道,英偉達(dá)Blackwell系列的B100被市場(chǎng)視為下一代英偉達(dá)GPU利器,除了首先采用臺(tái)積電3nm打造外,更是第一款以ChipletCoWoS-L形式封裝的英偉達(dá)產(chǎn)品,解決高耗電量與散熱問題,單卡效率及晶體管密度,預(yù)估將超過(guò)AMD首季推出的MI300系列。

服務(wù)器制造商戴爾透露了英偉達(dá)即將推出的人工智能(AIGPU Blackwell,這些芯片的功耗高達(dá)1000W,比上一代芯片的功耗增加40%,需要戴爾利用其獨(dú)創(chuàng)性工程來(lái)冷卻這些GPU

根據(jù)目前市場(chǎng)消息,英偉達(dá)B200較當(dāng)前H100產(chǎn)品,雖然運(yùn)算性能更為強(qiáng)大,但是功耗也更為驚人,預(yù)計(jì)最高達(dá)到1000W,較H100增加40%以上。英偉達(dá)H200芯片,因?yàn)椴捎?/span>Hopper架構(gòu),搭配HBM3e高帶寬內(nèi)存,被視為業(yè)界性能最強(qiáng)大的AI運(yùn)算芯片。

據(jù)預(yù)估,因?yàn)?/span>B100芯片運(yùn)算能力至少是H2002倍,也就是H1004倍情況下,B200的運(yùn)算性能將更加強(qiáng)大。臺(tái)積電先進(jìn)制程也持續(xù)滿載,臺(tái)積電2月產(chǎn)能利用率持續(xù)超過(guò)9成,人工智能(AI)需求不減。

供應(yīng)鏈表示,AI、高性能計(jì)算(HPC)等應(yīng)用一片晶圓能產(chǎn)出的芯片僅為消費(fèi)產(chǎn)品的四分之一,生產(chǎn)制造難度更高、更復(fù)雜;臺(tái)積電能達(dá)到穩(wěn)定量產(chǎn),對(duì)芯片行業(yè)來(lái)說(shuō),非常重要。臺(tái)積電目前HPCAI應(yīng)用平臺(tái)占營(yíng)收比重達(dá)43%,已與智能手機(jī)齊平。

(來(lái)源:集微網(wǎng))

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