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[導(dǎo)讀] 磁場(chǎng)屏蔽有低頻和高頻之分。低頻磁場(chǎng)屏蔽是利用高導(dǎo)磁率的材料構(gòu)成低磁阻通路,使大部分磁場(chǎng)被集中在屏蔽體內(nèi)。因此屏蔽體的導(dǎo)磁率越高,厚度越大,磁阻越小,磁場(chǎng)屏蔽的效果越好。當(dāng)磁場(chǎng)頻率較高時(shí),高導(dǎo)磁材料的導(dǎo)磁率下降,磁損增加,而應(yīng)采用高導(dǎo)電率材料產(chǎn)生的渦流的反向磁場(chǎng)來(lái)抵消騷擾磁場(chǎng)來(lái)實(shí)現(xiàn)屏蔽。用來(lái)屏蔽磁場(chǎng)的屏蔽體均不需接地。

 磁場(chǎng)屏蔽有低頻和高頻之分。低頻磁場(chǎng)屏蔽是利用高導(dǎo)磁率的材料構(gòu)成低磁阻通路,使大部分磁場(chǎng)被集中在屏蔽體內(nèi)。因此屏蔽體的導(dǎo)磁率越高,厚度越大,磁阻越小,磁場(chǎng)屏蔽的效果越好。當(dāng)磁場(chǎng)頻率較高時(shí),高導(dǎo)磁材料的導(dǎo)磁率下降,磁損增加,而應(yīng)采用高導(dǎo)電率材料產(chǎn)生的渦流的反向磁場(chǎng)來(lái)抵消騷擾磁場(chǎng)來(lái)實(shí)現(xiàn)屏蔽。用來(lái)屏蔽磁場(chǎng)的屏蔽體均不需接地。

電磁場(chǎng)屏蔽一般采用高導(dǎo)電率的材料作屏蔽體,并將屏蔽體接地。它是利用高導(dǎo)電率材料產(chǎn)生的渦流的反向磁場(chǎng)來(lái)抵消騷擾磁場(chǎng),又因屏蔽體接地而實(shí)現(xiàn)電場(chǎng)屏蔽。由于隨著頻率的增高,波長(zhǎng)變得和屏蔽體上的孔縫尺寸接近,因而電磁場(chǎng)屏蔽的關(guān)鍵除了要采用高導(dǎo)電率材料,還要控制屏蔽體的孔縫泄漏。

屏蔽材料的導(dǎo)電性能和導(dǎo)磁性能分別用相對(duì)電導(dǎo)率σr和相對(duì)磁導(dǎo)率μr來(lái)衡量,表1中列出了常用屏蔽材料的σr及μr值[1]。

 

 

由此可見,為了提高屏蔽效能,高導(dǎo)電率材料可采用鋁、銅,或者鋁鍍銅,要求更高時(shí),還可再鍍層銀。高導(dǎo)磁率材料可采用不銹鋼或者鐵,同時(shí)可適當(dāng)增加材料的厚度。

2.3 屏蔽設(shè)計(jì)

有兩個(gè)因素會(huì)影響屏蔽體的屏蔽效能:第一,屏蔽體必須是完整的,表面可連續(xù)導(dǎo)電;第二,不能有直接穿透屏蔽體的導(dǎo)體,防止造成天線效應(yīng)。但是在實(shí)際應(yīng)用中屏蔽體上往往有散熱孔,或者屏蔽體本身由若干個(gè)零件組成,存在裝配間隙。

縫隙或孔洞是否會(huì)泄漏電磁波,取決于縫隙或孔洞相對(duì)于電磁波波長(zhǎng)的尺寸。當(dāng)波長(zhǎng)遠(yuǎn)大于孔縫尺寸時(shí),并不會(huì)產(chǎn)生明顯的泄漏;當(dāng)孔縫尺寸等于半波長(zhǎng)的整數(shù)倍時(shí),電磁泄漏最大。一般要求孔縫尺寸小于最短波長(zhǎng)的1/10~1/2。因此,當(dāng)騷擾的頻率較高時(shí),波長(zhǎng)較短,須關(guān)注這個(gè)問(wèn)題。

對(duì)于裝配而成的屏蔽體,有以下幾種改善屏蔽效能的方式:

① 應(yīng)使接觸面盡量平整,以減小接觸阻抗。

② 在接觸面上增加彈性導(dǎo)電材料防止電磁波的縫隙泄漏。如導(dǎo)電泡棉或者金屬簧片襯墊。

③ 由螺釘聯(lián)接的組裝件,可減小安裝螺釘?shù)拈g距,以減小縫隙長(zhǎng)度。

④ 將接觸面做成單止口或者雙止口的裝配方式,以增加屏蔽體密閉性,如圖1所示。

 

 

圖1 止口結(jié)構(gòu)示意圖

對(duì)于通風(fēng)孔的設(shè)計(jì),可以使用幾個(gè)小圓孔代替一個(gè)大孔,并且保證通風(fēng)孔之間的間距大于1/2波長(zhǎng)。如圖2所示。

 

 

圖2 通風(fēng)孔示意圖

3 測(cè)試結(jié)果及分析

以公司產(chǎn)品為試驗(yàn)平臺(tái),在XFP模塊管殼結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中綜合運(yùn)用上述方法進(jìn)行優(yōu)化,制作出模塊樣品,并針對(duì)該樣品進(jìn)行了實(shí)際的測(cè)試。樣品結(jié)構(gòu)如圖3所示。

 

 

圖3 XFP模塊外形圖

根據(jù)FCC 47 CFR Part 15 Subpart B section 15.109(a),電磁騷擾場(chǎng)強(qiáng)的峰值限值為74 dBμV/m,平均值限值為54 dBμV/m。

改善前的XFP模塊電磁騷擾場(chǎng)強(qiáng)在水平方向的測(cè)試結(jié)果如圖4和表2所示:

 

 

圖4 改善前水平方向測(cè)試圖

表2 改善前水平方向測(cè)試數(shù)據(jù)

 

 

改善前的XFP模塊電磁騷擾場(chǎng)強(qiáng)在垂直方向的測(cè)試結(jié)果如圖5和表3所示:

 

 

圖5 改善前垂直方向測(cè)試圖

表3 改善前垂直方向測(cè)試數(shù)據(jù)

 

 

改善后的XFP模塊電磁騷擾場(chǎng)強(qiáng)在水平方向的測(cè)試結(jié)果如圖6和表4所示:

 

 

圖6 改善后水平方向測(cè)試圖

表4 改善后水平方向測(cè)試數(shù)據(jù)

 

 

改善后的XFP模塊電磁騷擾場(chǎng)強(qiáng)在垂直方向的測(cè)試結(jié)果如圖7和表5所示:

 

 

圖7 改善后垂直方向測(cè)試圖

表5 改善后垂直方向測(cè)試數(shù)據(jù)

 

 

由以上測(cè)試數(shù)據(jù)可見,改善后的電磁騷擾場(chǎng)強(qiáng)最大峰值下降了近2dBμV/m,平均值下降了近6dBμV/m。

4 結(jié)束語(yǔ)

在光收發(fā)合一模塊的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中,必須要將電磁屏蔽設(shè)計(jì)作為重點(diǎn)考慮的內(nèi)容。具體展開屏蔽設(shè)計(jì)時(shí),應(yīng)先確定騷擾源的特征,再選擇合適的屏蔽材料,然后結(jié)合適當(dāng)?shù)钠帘畏绞揭郧筮_(dá)到最佳的屏蔽效果。通過(guò)樣品的測(cè)試結(jié)果表明,模塊的電磁兼容性能得到了很大的改善,且模塊各項(xiàng)工作性能指標(biāo)沒有受到任何影響。

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