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[導讀]近日,臺灣國立成功大學和昆山科技大學合作,在氮化物led的p電極下插入二氧化硅/鋁多層結(jié)構,器件光功率得到明顯提高。這里二氧化硅可以改進有源區(qū)的電流擴展,降低電流堆積效應,而鋁作為放射鏡可以降低p電極對光的

近日,臺灣國立成功大學和昆山科技大學合作,在氮化物led的p電極下插入二氧化硅/鋁多層結(jié)構,器件光功率得到明顯提高。這里二氧化硅可以改進有源區(qū)的電流擴展,降低電流堆積效應,而鋁作為放射鏡可以降低p電極對光的吸收,增加藍寶石襯底邊光的提取。他們比較了三個LED(普通型作為參照,二氧化硅阻擋層的LED,以及二氧化硅阻擋層+鋁反射鏡的LED),20毫安工作電流下,使用二氧化硅電流阻擋層較傳統(tǒng)結(jié)構器件功率提高15.7%,而使用二氧化硅阻擋層+鋁反射鏡,功率則提高了25.8%。

當前多數(shù)氮化物LED都是在絕緣的藍寶石襯底上外延生長的,因此p電極和n電極都在藍寶石的同側(cè),這樣金屬電極,特別是距離有源區(qū)近的p電極,都會吸收光而降低了LED光的有效提取。如果通過降低電極厚度來減少對光的吸收,將會引起電流分布不均勻,造成局部高電流密度,產(chǎn)生droop效應,降低了LED的效率。因而電流擴展問題成為目前困擾LED器件效率提高的一個關鍵所在。

國立成功大學新提出的反射阻擋層結(jié)構,即采用二氧化硅阻擋層+鋁反射鏡,其中鋁反射鏡對430-480納米藍光的反射率達到了91%。這種新結(jié)構不但改善了電流擴展,增加光的提取,而且還降低了反向漏電,5V電壓下反向漏電流從傳統(tǒng)結(jié)構的33.2 nA降低到了29.3 nA,這是二氧化硅對表面缺陷的鈍化效應引起的。反射阻擋層新結(jié)構的一個小缺點是降低了p-GaN和ITO電流擴展層的接觸面積,這樣會引起LED工作電壓稍微提高,20mA電流下,電壓從傳統(tǒng)結(jié)構的3.6V提高到3.7V。

 


圖1:光輸出功率/電流對比電壓(L-I-V)
(黑色為參考線,紅色為正常堵塞,綠色為阻擋加反射后LED性能)

 


圖2:氮化物半導體外延結(jié)構圖解

 


圖3:頂端為三種LED的電荷耦合器件圖形
底端為相應的結(jié)構示意圖
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