近日，大陸半導體積極布局發(fā)展是否會對臺灣半導體業(yè)者構成威脅的問題引來了全球半導體的討論。在SEMICON Taiwan 2014上，比利時微電子(IMEC)執(zhí)行長Luc Van Den Hove表示，大陸半導體業(yè)者雖然積極，但先進制程腳步仍慢，距離臺灣太遙遠，臺灣仍是半導體產業(yè)先進制程技術的領先者。

作為歐洲半導體業(yè)者的代表，IMEC 與荷商微影設備大廠ASML也有著緊密合作伙伴關系，日前ASML才歡喜揭露極紫外光(EUV)機臺技術有重大突破，不但是機臺的曝光片數大幅成長，且接獲多家重量級半導體大廠對于新EUV機臺的訂單，讓EUV技術進入10納米制程進度有大斬獲，得以延續(xù)半導體摩爾定律前進。

Van Den Hove表示，很高興看到ASML的極紫外光(EUV)技術獲得突破，事實上，半導體大廠進入16/14納米FinFET制程技術世代后，都面臨相當多挑 戰(zhàn)，F(xiàn)inFET制程的難度十分高，但移動通訊產品需要低功耗、高效能的特性，也使得高階先進制程需求的必要性提升，同時FinFET制程技術也會一直延 續(xù)到7納米世代。

尤其ASML在EUV機臺的突破，得以讓半導體大廠先進制程壽命可持續(xù)，并維持一定的成本降低目標，部分公司已考慮在10納米制程第二階段的投產計畫中，加入EUV機臺技術，整個半導體產業(yè)來自于晶圓代工、邏輯制程技術等，對于EUV機臺的需求，將是十分強勁。

此外，半導體材料也不斷追求新突破和創(chuàng)新，例如加入鍺(Ge)，與矽共同結合，加速半導體晶片運作的效能。

再者，半導體大廠在先進制程28納米、20納米、16/14納米、10納米和7納米制程的投資增加十分龐大，使得風險升高，因此很多半導體廠也藉由和IMEC合作，以降低生產成本，共同開發(fā)先進技術。

其中合作廠商包括英特爾(Intel)、三星電子(Samsung Electronics)、GlobalFoundries、SK海力士(SK Hynix)、東芝(Toshiba)、新帝(SanDisk)等。