上海2012年12月20日電 /美通社/ -- 中芯國際集成電路制造有限公司( http://www.smics.com )（"中芯國際"，紐約證交所代碼：SMI，香港聯(lián)交所代碼：981），中國規(guī)模最大、技術最先進的集成電路代工廠，今天宣布在背照式 CMOS 成像傳感技術研發(fā)領域取得突破性進展，首款背照式 CMOS 成像傳感測試芯片一次流片即獲得成功，在低照度下同樣獲得高質量的清晰圖像。這標志著中芯國際自主開發(fā)的背照式 CMOS 成像傳感芯片全套晶圓工藝核心技術接近成熟，步入產(chǎn)業(yè)化階段，更好地滿足高端智能移動終端的需要。該技術將于2013年與客戶伙伴進行試產(chǎn)。

背照式 CMOS 成像傳感芯片工藝技術開發(fā)的成功，有助于中芯國際進一步拓展晶圓代工業(yè)務，支持國內(nèi)外客戶500萬像素以上高分辨率智能手機用圖像傳感芯片、以及高性能視頻影像傳感芯片產(chǎn)品的開發(fā)和生產(chǎn)。背照式傳感器比前照式傳感器擁有更強的感光能力，使如今的頂級智能手機在夜晚或室內(nèi)成像更為明亮、清晰。在該技術步入產(chǎn)業(yè)化的同時，中芯國際也將積極開展基于3D集成電路的下一代成像傳感芯片晶圓工藝的前期技術開發(fā)。

"我們很榮幸成為國內(nèi)首家取得背照式 CMOS 成像傳感器技術突破的晶圓代工廠，"中芯國際首席執(zhí)行官邱慈云博士表示，"CMOS 成像傳感器是我們?yōu)橐苿釉O備和成像市場客戶所提供的關鍵增值技術之一。"

"在此基礎上，我們的研發(fā)團隊將大力推進背照式傳感器技術的商業(yè)化生產(chǎn)，"中芯國際技術研發(fā)資深副總裁李序武博士表示，"這一突破進一步鞏固了中芯國際在國內(nèi)先進技術領域的領導者地位。"

自2005年起提供前照式 CMOS 影像傳感工藝以來，中芯國際即成為 CMOS 成像傳感芯片的主要晶圓代工廠商，主要應用于手機及消費電子。為了提供全方位的 CMOS 成像傳感晶圓代工服務，中芯國際和日本凸版印刷株式會社于2004年合資成立了凸版中芯彩晶電子（上海）有限公司，在中芯國際上海廠區(qū)專業(yè)生產(chǎn) CMOS 成像傳感器芯片專用的芯載彩色濾光鏡和微鏡頭。

關于中芯國際

中芯國際集成電路制造有限公司（"中芯國際"，紐約證交所股票代碼：SMI，香港聯(lián)合交易所股票代碼：981），是世界領先的集成電路晶圓代工企業(yè)之一，也是中國內(nèi)地規(guī)模最大、技術最先進的集成電路晶圓代工企業(yè)。中芯國際向全球客戶提供0.35微米到40納米晶圓代工與技術服務。中芯國際總部位于上海，在上海建有一座 300mm 晶圓廠和三座 200mm 晶圓廠。在北京建有兩座 300mm 晶圓廠，在天津建有一座 200mm 晶圓廠，在深圳有一座 200mm 晶圓廠在興建中。中芯國際還在美國、歐洲、日本和臺灣地區(qū)提供客戶服務和設立營銷辦事處，同時在香港設立了代表處。此外，中芯國際代武漢新芯集成電路制造有限公司經(jīng)營管理一座 300mm 晶圓廠。

詳細信息請參考中芯國際網(wǎng)站 http://www.smics.com