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[導(dǎo)讀]科磊(KLA-Tencor)推出三款新型晶圓缺陷檢測系統(tǒng)--2900系列寬頻光學(xué)晶圓缺陷檢測平臺、Puma 9650系列窄頻光學(xué)晶圓缺陷檢測系統(tǒng)和eS800系列電子束檢測系統(tǒng)。此新型旗艦組合旨在解決新材料、新結(jié)構(gòu)和新設(shè)計(jì)規(guī)則給晶片制

科磊(KLA-Tencor)推出三款新型晶圓缺陷檢測系統(tǒng)--2900系列寬頻光學(xué)晶圓缺陷檢測平臺、Puma 9650系列窄頻光學(xué)晶圓缺陷檢測系統(tǒng)和eS800系列電子束檢測系統(tǒng)。此新型旗艦組合旨在解決新材料、新結(jié)構(gòu)和新設(shè)計(jì)規(guī)則給晶片制造商帶來的各種缺陷問題。

KLA-Tencor晶圓檢測事業(yè)群副總裁Mike Kirk表示,客戶在制程上有各種缺陷問題須要解決,最難的包括在圖形雜訊中深入電容內(nèi)部,找到極細(xì)微的缺陷。新型三重檢測系統(tǒng)包含更新、更強(qiáng)大的光源或電子槍、獨(dú)具創(chuàng)新的訊號成形以及降低雜訊的多種方法。這些創(chuàng)新提高每款工具的訊號雜訊比,在客戶將新一代邏輯電路存儲設(shè)備推向市場的過程中,這三款產(chǎn)品將發(fā)揮重要作用。

2900系列對半導(dǎo)體制程前段及后段的細(xì)微關(guān)鍵缺陷,具有更強(qiáng)的擷取能力。在某些情況下,其靈敏度可逼近電子束檢測;而在顯影后檢測(ADI)上的總體缺陷擷取能力,可匹敵蝕刻后檢測(AEI)結(jié)果。該設(shè)備顯著改善的ADI檢測效能,意味著晶圓廠能在制程中更早發(fā)現(xiàn)致命缺陷,讓工程師能在材料被浪費(fèi)前有更多時(shí)間糾正問題。

Puma 9650系列能對良率至關(guān)重要的晶粒區(qū)提供更強(qiáng)的缺陷擷取能力,例如在靜態(tài)隨機(jī)存取記憶體(SRAM)陣列的邊緣、記憶體過渡區(qū)和分頁處。此款是Puma 9550平臺的升級產(chǎn)品,對于微粒及橋接、殘留物和前端蝕刻層上的額外圖形等圖形缺陷,均可全面提供更高的靈敏度。

eS800系列對于各段制程與各種結(jié)構(gòu)均具備物理缺陷與電缺陷擷取能力。其中最具挑戰(zhàn)性的缺陷,包括深陷在溝槽或通孔內(nèi)的缺陷,或者在動態(tài)隨機(jī)存取記憶體(DRAM)和SRAM陣列最邊緣的缺陷。該設(shè)備還提供掃描晶粒大面積所需的產(chǎn)能,以尋找諸如蝕刻不足、短路或斷路等電缺陷特征。

此外,新產(chǎn)品組合中的每個(gè)檢測系統(tǒng),都能與最近推出的eDR-7000電子束晶圓缺陷檢查系統(tǒng)無縫連接。eDR-7000具備杰出的靈敏度與檢查速度,可完成對檢測儀所發(fā)現(xiàn)的缺陷類型進(jìn)行識別,讓工程師能及時(shí)解決缺陷問題,并精準(zhǔn)處理晶圓。



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