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[導讀]國際半導體設備材料產(chǎn)業(yè)協(xié)會(SEMI)預測,2010年全球晶圓廠前段制程設備支出規(guī)模,將較2009年成長133%,并在2011年再度取得18%的成長率。而全球已建置晶圓廠產(chǎn)能,包括離散組件廠在內,估計在2010年成長7%,并在2011年

國際半導體設備材料產(chǎn)業(yè)協(xié)會(SEMI)預測,2010年全球晶圓廠前段制程設備支出規(guī)模,將較2009年成長133%,并在2011年再度取得18%的成長率。而全球已建置晶圓廠產(chǎn)能,包括離散組件廠在內,估計在2010年成長7%,并在2011年將再成長8%。

這份World Fab Forecast報告并預期,2010年全球晶圓廠建設支出規(guī)模,將成長125%,2011年還將再成長22%。SEMI的數(shù)據(jù)指出,在2010與 2011年,將有超過150座晶圓廠興建計劃,總支出估計830億美元;該估計數(shù)字是根據(jù)各晶圓廠興建計劃與設備支出計劃所做成,追蹤對象涵蓋大/小產(chǎn)能晶圓廠,以及生產(chǎn)微機電系統(tǒng)(MEMS)、LED、離散組件的晶圓廠。

該報告指出,在2010年總計有54個晶圓廠興建計劃正在進行,建設支出總計在45億美元左右;在這些計劃中,有五成是LED晶圓廠,而且大部分位于中國。將在2011年執(zhí)行的晶圓廠興建計劃雖然較少,但規(guī)模卻比較大,建設支出總計約55億美元。

SEMI估計,2010年全球半導體設備支出將成長133%,達到340億美元規(guī)模;而在2008年,全球半導體設備支出則是成長27%。該協(xié)會并預測2011年全球半導體設備支出將再成長18%,達到390億美元的規(guī)模,超越2007年的水平。

至于在2010年開始營運的晶圓廠數(shù)量大約為22座,其中也有超過五成都是LED廠;另外明年則預計有28座晶圓廠即將開張,包括4座內存廠。到2010年底,全球已建置晶圓產(chǎn)能(不包括離散組件),估計達到每月1,440萬片8吋約當晶圓,2010年該數(shù)字則可望成長8%,來到每月1,580萬8吋約當晶圓。

SEMI指出,內存廠是占據(jù)全球已建置晶圓產(chǎn)能的最大宗,所占比例在2010與2011年約為41%;晶圓代工廠則居次,所占據(jù)比例將由2009年的24%,在2011年成長到26%左右。



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