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[導(dǎo)讀]泛林集團(tuán)攜手清華大學(xué)與北京市未來芯片技術(shù)高精尖創(chuàng)新中心在北京舉辦泛林集團(tuán)技術(shù)研討會(Lam Research Technical Symposium)。來自泛林集團(tuán)、清華大學(xué)、加州大學(xué)伯克利分校、麻省理工學(xué)院和斯坦福大學(xué)的世界著名學(xué)者與業(yè)界專家出席了本次研討會,就全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)面臨的挑戰(zhàn)深入交換意見,探討如何更好地助力產(chǎn)業(yè)技術(shù)突破與創(chuàng)新發(fā)展。

匯聚行業(yè)智慧 共謀半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展

泛林集團(tuán)攜手清華大學(xué)與北京市未來芯片技術(shù)高精尖創(chuàng)新中心在北京舉辦泛林集團(tuán)技術(shù)研討會(Lam Research Technical Symposium)。來自泛林集團(tuán)、清華大學(xué)、加州大學(xué)伯克利分校、麻省理工學(xué)院和斯坦福大學(xué)的世界著名學(xué)者與業(yè)界專家出席了本次研討會,就全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)面臨的挑戰(zhàn)深入交換意見,探討如何更好地助力產(chǎn)業(yè)技術(shù)突破與創(chuàng)新發(fā)展。

清華大學(xué)副校長、北京市未來芯片技術(shù)高精尖創(chuàng)新中心主任尤政院士向與會來賓致歡迎辭時(shí)談到:“隨著后摩爾時(shí)代的到來,垂直方向的尺寸縮小技術(shù)以其集成化、多樣化等優(yōu)勢而得到廣泛認(rèn)可。清華大學(xué)一直致力于芯片技術(shù)的研究和開發(fā),并被廣泛認(rèn)為是中國該領(lǐng)域研究的先驅(qū)。”

 

 

清華大學(xué)副校長、北京市未來芯片技術(shù)高精尖創(chuàng)新中心主任尤政院士致歡迎辭

泛林集團(tuán)執(zhí)行副總裁兼首席技術(shù)官Richard Gottscho博士致歡迎辭,他表示: “從人工智能、機(jī)器學(xué)習(xí),到虛擬現(xiàn)實(shí)、增強(qiáng)現(xiàn)實(shí),再到機(jī)器人、自動(dòng)駕駛汽車和智慧醫(yī)療等領(lǐng)域,許多應(yīng)用都在積極推動(dòng)半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,與此同時(shí)也帶來了巨大挑戰(zhàn)。泛林集團(tuán)正是希望與各位專家學(xué)者通過此次技術(shù)研討會來分享創(chuàng)新的解決方案,以幫助行業(yè)應(yīng)對全新挑戰(zhàn)、把握發(fā)展良機(jī)。”

 

 

泛林集團(tuán)執(zhí)行副總裁兼首席技術(shù)官Richard Gottscho博士致歡迎辭

清華大學(xué)微電子學(xué)研究所所長魏少軍教授在致辭中表示:“60年來,集成電路的發(fā)展超乎我們的想象,我對集成電路的未來前景充滿信心,集成電路還能發(fā)展100年。”

 

 

清華大學(xué)微電子學(xué)研究所所長魏少軍教授致歡迎辭

在為期兩天的研討會中,眾多知名學(xué)者就半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的新興技術(shù)、行業(yè)現(xiàn)狀和挑戰(zhàn)等話題各抒己見。其中,泛林集團(tuán)先進(jìn)技術(shù)發(fā)展事業(yè)部公司副總裁潘陽博士以“從設(shè)備供應(yīng)商的視角解讀半導(dǎo)體微縮的挑戰(zhàn)與機(jī)遇”(Semiconductor Scaling Challenges and Opportunities – An Equipment Supplier’s Perspective)為題發(fā)表主題演講,講述了泛林集團(tuán)作為領(lǐng)先的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商為應(yīng)對尺寸減小做出的不懈努力。清華大學(xué)微電子學(xué)研究所副所長吳華強(qiáng)教授作了題為“基于新興設(shè)備的存儲計(jì)算”(Computation in Memory with Emerging Devices)的精彩演講。

 

 

泛林集團(tuán)先進(jìn)技術(shù)發(fā)展事業(yè)部公司副總裁

潘陽博士發(fā)表主題演講

 

清華大學(xué)微電子學(xué)研究所副所長

吳華強(qiáng)教授發(fā)表主題演講

伴隨著先進(jìn)制程工藝的發(fā)展,半導(dǎo)體行業(yè)面臨了前所未有的挑戰(zhàn)。行業(yè)對于包括原子層刻蝕技術(shù)(ALE)、原子層沉積技術(shù)(ALD)等在內(nèi)的前沿解決方案的需求迫在眉睫。為了探討相關(guān)問題并分享前沿觀點(diǎn),Gottscho博士與魏少軍教授分別主持了兩場題為“器件微縮與新材料”(Device Scaling and New Materials)與“3D微縮與其他維度工藝”(3D Scaling and Other Dimensions)的專題研討會。在Gottscho博士主持的研討會上,與會專家圍繞模糊計(jì)算在機(jī)器學(xué)習(xí)和人工智能中對工藝多樣化的要求,數(shù)字運(yùn)算和模擬運(yùn)算發(fā)展前景的比較,摩爾定律的未來等方面展開了精彩的討論。他們認(rèn)為隨著“超越摩爾定律”(More than Moore)時(shí)代的來臨,新材料和新結(jié)構(gòu)等新工藝將成為產(chǎn)業(yè)新的發(fā)展重心。

 

Richard Gottscho博士(左一)主持了題為“器件微縮與新材料” 的專題研討會

 

魏少軍教授(左一)主持了題為“3D微 縮與其他維度工藝” 的專題研討會

Gottscho博士表示:“泛林集團(tuán)技術(shù)研討會為全球杰出學(xué)者專家提供了一個(gè)非常好的交流平臺,共同探討如何以創(chuàng)新的方式應(yīng)對半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)所面臨的挑戰(zhàn)。作為半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)革新的重要推動(dòng)者,泛林集團(tuán)始終致力于增強(qiáng)全球?qū)W者、專家間的深度交流與互動(dòng),彰顯其在半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)領(lǐng)先者的地位。”

 

 

2018泛林集團(tuán)技術(shù)研討會現(xiàn)場

北京市未來芯片技術(shù)高精尖創(chuàng)新中心是北京市教委首批認(rèn)定的“北京高等學(xué)校高精尖創(chuàng)新中心”之一,充分發(fā)揮清華大學(xué)的學(xué)科、科研和人才優(yōu)勢,聯(lián)合清華微電子所等相關(guān)院系資源,組建了微電子等六個(gè)分中心以及微米納米技術(shù)支撐平臺,由清華大學(xué)副校長尤政院士擔(dān)任中心主任,著重推動(dòng)北京未來芯片產(chǎn)業(yè)實(shí)現(xiàn)跨越式發(fā)展。

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