晶圓制造產(chǎn)業(yè)進(jìn)入7納米制程之后，目前全世界僅剩臺(tái)積電與三星，再加上號(hào)稱自家10納米制程優(yōu)于競爭對手7納米制程的英特爾等，有繼續(xù)開發(fā)能力之外，其他競爭者因須耗費(fèi)大量金錢與人力物力的情況下，都已宣布放棄。

就在7納米制程節(jié)點(diǎn)以下先進(jìn)制程的領(lǐng)域，必不可少的關(guān)鍵就是極紫外線微影(EUV)設(shè)備導(dǎo)入。除了三星用在首代7納米LPP制程，臺(tái)積電也自2019年開始，將EUV導(dǎo)入加強(qiáng)版7納米+制程。

所謂的極紫外線微影設(shè)備EUV，就是Extreme Ultraviolet簡稱，使用通稱極紫外線之極短波(13.5nm)光線的微影技術(shù)，能加工至既有ArF準(zhǔn)分子雷射光微影技術(shù)不易達(dá)到之20nm以下的精密尺寸。不但能降低晶圓制造時(shí)光罩使用數(shù)量，以降低生產(chǎn)成本，并提高生產(chǎn)良率，也因能加工過去ArF準(zhǔn)分子雷射光微影技術(shù)不易達(dá)到的20nm以下之精密尺寸，更有助半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)摩爾定律(Moore’s law)再往下延伸，讓半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展持續(xù)精進(jìn)。

因EUV設(shè)備扮演如此關(guān)鍵性的角色，使全球晶圓生產(chǎn)企業(yè)都希望獲得此設(shè)備。2012年，全球三大頂尖晶圓制造廠商英特爾、臺(tái)積電、三星等加入全球EUV市場占有率90%以上的ASML“客戶聯(lián)合投資專案”(Customer Co-Investment Program)，分別取得ASML 15%、5%及3%股權(quán)，保證取得EUV優(yōu)先供貨。

聽了這么多有關(guān)EUV設(shè)備的敘述之后，或許大家都懂了這是什么樣的設(shè)備，但卻很難想像，EUV不過就是一臺(tái)微影設(shè)備，究竟體積會(huì)有多大?日前ASML就表示，目前最大年產(chǎn)量僅30臺(tái)的EUV設(shè)備，每臺(tái)重量高達(dá)180公噸，每次運(yùn)輸要用3架次貨機(jī)才能運(yùn)完。

ASML表示，目前半導(dǎo)體先進(jìn)制程不可或缺的EUV設(shè)備，每臺(tái)有超過10萬個(gè)零件，加上3千條電線、4萬個(gè)螺栓及2公里長的軟管等零組件，最大重量達(dá)180公噸，每次運(yùn)輸必要?jiǎng)佑?0個(gè)貨柜、20輛卡車，并3架次貨機(jī)才能運(yùn)完，且每部造價(jià)超過1億美元。在這么龐大的數(shù)字下，可以想見ASML為什么一年最高產(chǎn)量只有30部EUV了。