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[導(dǎo)讀]“18th International Display Workshops(IDW '11)”(2011年12月7~9日,名古屋國際會(huì)場(chǎng))在會(huì)程上將有源矩陣(AMD)與有機(jī)EL(OLED)的會(huì)議時(shí)間錯(cuò)開,因此筆者聽到了想聽到的所有發(fā)表,非常過癮。如果會(huì)方以后也

“18th International Display Workshops(IDW '11)”(2011年12月7~9日,名古屋國際會(huì)場(chǎng))在會(huì)程上將有源矩陣(AMD)與有機(jī)EL(OLED)的會(huì)議時(shí)間錯(cuò)開,因此筆者聽到了想聽到的所有發(fā)表,非常過癮。如果會(huì)方以后也能夠像這次一樣將相關(guān)會(huì)議的時(shí)間錯(cuò)開的話,那就太感激不盡了。

但此次的IDW同時(shí)也有無法理解的地方,那就是“OLED2”有Organic TFT會(huì)議(有機(jī)TFT會(huì)議),而“AMD5”也成了Organic TFT會(huì)議,Organic TFT到底以什么標(biāo)準(zhǔn)來界定,是屬于OLED類,還是屬于AMD類,這一點(diǎn)讓人有些糊涂。筆者希望,包括與柔性顯示器相關(guān)的內(nèi)容在內(nèi),今后最好能夠明確以什么標(biāo)準(zhǔn)來對(duì)發(fā)表實(shí)施分類。個(gè)人認(rèn)為,增加聯(lián)合會(huì)議也是一項(xiàng)不錯(cuò)的選擇。

有機(jī)TFT、氧化物TFT、透明顯示器的發(fā)表接連不斷——AMD會(huì)議最后一天

在有機(jī)TFT會(huì)議上,日本凸版印刷首先做發(fā)表,介紹了用于形成有機(jī)TFT的印刷技術(shù)(論文編號(hào):AMD5-1)。該公司表示,在形成柵電極和源漏電極時(shí)適于使用膠版印刷,在形成有機(jī)溝道層時(shí)適于使用柔版印刷,在形成層間絕緣膜和像素電極時(shí)適于使用絲網(wǎng)印刷。膠版印刷具有高分辨率(支持5μm行距)、高處理量、可大面積操作的特點(diǎn)。柔版印刷具有均勻性好、油墨利用效率高、圖案再現(xiàn)精度出色、可避免雜質(zhì)污染等特點(diǎn)。該公司使用這些印刷技術(shù),在未使用任何光刻工藝的情況下,在PEN基板上試制了5.35英寸150ppi、2英寸50ppi、11英寸73ppi的有機(jī)TFT陣列,并使用臺(tái)灣E Ink公司的薄膜制成柔性電子紙,確認(rèn)了工作情況。

東京大學(xué)等發(fā)表了可使用浮游柵來控制Vth特性的有機(jī)EL驅(qū)動(dòng)用有機(jī)TFT陣列(論文編號(hào):AMD5-3)。通過以3倍于通常柵極電壓的60V電壓向浮游柵施加寬50ms的脈沖波形來控制特性。像素電路為3T1C(3個(gè)晶體管、1個(gè)電容器)型,在監(jiān)視驅(qū)動(dòng)用TFT的特性偏差和有機(jī)EL的劣化的同時(shí)來驅(qū)動(dòng)。東京大學(xué)表示,與以往的外部補(bǔ)償電路相比,可進(jìn)一步減小電路規(guī)模。

日本旭硝子公司和東京工業(yè)大學(xué)發(fā)表了提高氧化物TFT可靠性的手段——將器件整個(gè)密封起來的玻璃粉密封技術(shù)(論文編號(hào):AMD6-5L)。水蒸汽透過率WVTR的數(shù)值降到了10-6g/m2/天以下。據(jù)稱,實(shí)施該玻璃密封后,非晶IGZO(a-IGZO)TFT的可靠性得到大幅提高。對(duì)非晶IGZO(a-IGZO)TFT實(shí)施20小時(shí)5μA室溫額定電流沖擊試驗(yàn)后檢測(cè)了Vth漂移量。結(jié)果表明,在實(shí)施玻璃密封時(shí)為0.3V,而未實(shí)施玻璃密封時(shí)為1.5V。即使在60℃、濕度90%的條件下,20小時(shí)后的Vth漂移量也降到了0.5V。TFT為底柵構(gòu)造的背溝道蝕刻型,經(jīng)確認(rèn),即使沒有鈍化膜,只靠玻璃密封膜也可獲得如此大的可靠性提高效果。

韓國三星電子發(fā)表了開發(fā)透明液晶顯示器的意義(論文編號(hào):AMD7-2)。雖然這是應(yīng)用會(huì)議上的發(fā)表,基本不涉及技術(shù)內(nèi)容,但從中可深切體會(huì)到液晶行業(yè)身處的嚴(yán)峻形勢(shì)以及對(duì)透明液晶顯示器這一新應(yīng)用的極大期待,非常有趣。在作為L(zhǎng)ED背照燈液晶電視的下一輪沖擊波而備受期待的三維(3D)電視及智能電視增長(zhǎng)缺力的情況下,液晶行業(yè)期待出現(xiàn)新的巨大沖擊波,而三星看好的正是透明液晶顯示器。該公司使用大量具體應(yīng)用例的示意圖做了演示,內(nèi)容非常精彩。作為可實(shí)現(xiàn)新型數(shù)字標(biāo)牌及新型人機(jī)接口的裝置,透明液晶顯示器有望獲得市場(chǎng)好評(píng)。不過,冷靜想一下這種顯示器要求的各項(xiàng)性能指標(biāo)以及實(shí)現(xiàn)這些指標(biāo)時(shí)的成本,要說這種顯示器能夠掀起巨大沖擊波,也許還有很大難度。

富士膠片發(fā)表了遷移率超過40cm2/Vs的高性能IGZO TFT(論文編號(hào):AMD8-4L)。據(jù)該公司介紹,通過利用氧的穩(wěn)定同位素18O實(shí)施干式退火處理,評(píng)測(cè)了氧向IGZO膜中的擴(kuò)散狀態(tài),獲得了在350℃以上的溫度下氧開始向膜中擴(kuò)散,在450℃下到達(dá)15nm深處的結(jié)果。該公司根據(jù)這一結(jié)果試制了以下兩種構(gòu)造的TFT。首先在p型硅晶圓上形成100nm厚的熱氧化SiO2膜,將其作為柵電極和柵絕緣膜來使用。然后在上面先形成第一層、即厚5nm的In1.85Ga0.15ZnO4膜作為載流子密度高的主載流子層,之后再在上面形成第二層、即In0.5Ga1.5ZnO4膜作為第一電阻膜。該公司利用第一電阻膜的厚度為8nm(Type A)和50nm(Type B)的兩種TFT做了實(shí)驗(yàn)。以上述狀態(tài)在450℃干氧霧環(huán)境下實(shí)施了退火處理。Type A的TFT在退火后又層疊了In0.5Ga1.5ZnO4膜,使合計(jì)膜厚達(dá)到50nm。最后再利用掩模板形成Ti/Au源漏電極

憑借這一構(gòu)造,Type A的遷移率達(dá)到41.8cm2/Vs,Type B的遷移率達(dá)到38.4cm2/Vs。雖然兩種構(gòu)造的TFT之間遷移率差距較小,但對(duì)光沖擊的變化卻存在很大差異。尤其在λ<400nm的范圍內(nèi),Type A的Vth漂移量為-0.05V,而Type B的Vth漂移量卻達(dá)到了-0.38V。根據(jù)這些實(shí)驗(yàn)結(jié)果,富士膠片得出結(jié)論:控制氧向IGZO膜中的擴(kuò)散量,可為提高TFT的遷移率和抗光沖擊性做出貢獻(xiàn)。

旭硝子的玻璃粉密封(論文編號(hào):AMD6-5L)
確保了充分的密封強(qiáng)度和密封性能。實(shí)施破壞試驗(yàn)時(shí),玻璃基板破裂,而密封部分完好。在玻璃粉密封技術(shù)方面,韓國三星移動(dòng)顯示器(SMD)率先實(shí)現(xiàn)實(shí)用化,但日本企業(yè)開發(fā)出競(jìng)爭(zhēng)技術(shù),對(duì)行業(yè)發(fā)展也很有意義。(點(diǎn)擊放大)



由大阪大學(xué)、日本產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合研究所、Crystage、廣島大學(xué)發(fā)表。據(jù)稱,使用DNTT TFT的液晶面板的演示在全球尚屬首次。未使用驅(qū)動(dòng)IC,因此向數(shù)據(jù)線施加了正弦波信號(hào),通過非同步顯示確認(rèn)了工作情況。


回首3天會(huì)期,此次IDW上有很多有意思的發(fā)表,筆者收獲頗豐。日本企業(yè)在氧化物TFT等方面公開了大量出色的數(shù)據(jù),表現(xiàn)出色。而且,在電子紙領(lǐng)域,瞄準(zhǔn)全彩顯示的獨(dú)特裝置也紛紛發(fā)表,令人感到顯示器技術(shù)還蘊(yùn)藏著新的可能性。2012年的IDW將與“Asia Display”合并為“IDW/AD”在京都聯(lián)合舉辦。(特約撰稿人:松枝 洋二郎,友達(dá)光電)


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