應(yīng)用材料公司日前宣​​布，推出新的物理氣相沉積(PVD)和電漿強(qiáng)化化學(xué)氣相沉積(PECVD)技術(shù)，促使超高畫質(zhì)(UHD)電視及高像素密度顯示屏的行動裝置邁向新紀(jì)元。這項重大轉(zhuǎn)型技術(shù)的關(guān)鍵是新的金屬氧化物與低溫多晶矽(LTPS)材料，可用來制造更快速、更小巧的薄膜電晶體(TFT)，適用于液晶顯示器(LCD)和有機(jī)發(fā)光二極體(OLED)技術(shù)。 Applied AKT-PiVot?物理氣相沉積和Applied AKT-PX電漿強(qiáng)化化學(xué)氣相沉積薄膜沉積系統(tǒng)為面板業(yè)者提供高效能、符合成本效益的途徑，帶動先進(jìn)材料的量產(chǎn)。

應(yīng)用材料公司集團(tuán)副總裁暨顯示器事業(yè)群總經(jīng)理湯姆.艾德曼(Tom Edman)表示：「在過去的20年中，TFT技術(shù)的精進(jìn)，推動顯示器產(chǎn)業(yè)進(jìn)行一場最關(guān)鍵的技術(shù)轉(zhuǎn)型。應(yīng)用材料公司開發(fā)出通過驗證的系統(tǒng)產(chǎn)品組合，協(xié)助我們客戶技術(shù)躍進(jìn)，進(jìn)而運(yùn)用這些新的薄膜?？蛻衾梦覀兊南到y(tǒng)獲得出色的成果，應(yīng)用材料公司業(yè)已獲得主要顯示器制造商的多張訂單。

針對采用金屬氧化物的TFT，應(yīng)用材料公司的AKT-PiVot PVD系統(tǒng)使用專屬的旋轉(zhuǎn)陰極技術(shù)來沉積銦鎵鋅氧化物(IGZO)，這是具有高電子遷移率的新材料，能形成電晶體通道。 PiVot 系統(tǒng)為顯示器產(chǎn)業(yè)提供了強(qiáng)大的IGZO 解決方案，能夠克服影響顯示器品質(zhì)的顯示不均(mura effect) 缺陷，這項問題曾讓金屬氧化物技術(shù)無法成為液晶顯示器的主流。此外，由PiVot 沉積的銦鎵鋅氧化物薄膜突破了TFT 穩(wěn)定性問題，確保OLED可以使用金屬氧化物背板，大幅降低成本，讓經(jīng)濟(jì)實惠而細(xì)致鮮艷的大型OLED電視成為可能。

低溫多晶矽(LTPS)技術(shù)是一項通過驗證的方法，可用來制造行動LCD和OLED裝置的最高解析度顯示幕，但一直面臨玻璃基板放大問題和單位制造成本高昂的挑戰(zhàn)。應(yīng)用材料公司AT-PX電漿強(qiáng)化化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)的全新擴(kuò)充系列產(chǎn)品，可在1.6平方公尺到5.7平方公尺的玻璃基板上沉積出極為均勻的LTPS薄膜。這些加大的基板，讓面板制造商能夠?qū)崿F(xiàn)經(jīng)濟(jì)規(guī)模，大幅提高產(chǎn)能并降低成本，同時也讓全球各地數(shù)十億的消費者能夠享受大型LCD電視。應(yīng)用材料的系統(tǒng)用于大面積玻璃制造，也有助加速LTPS技術(shù)的轉(zhuǎn)型，讓行動裝置與電視的顯示屏變得更大。