TDK開發(fā)出了厚度僅為15μm的觸摸面板用透明導(dǎo)電膜。這是設(shè)想用于平板電腦及智能手機(jī)用電容式觸摸面板而開發(fā)的產(chǎn)品，目標(biāo)是2015年投放市場。

右手中是兩片重疊在一起的此次開發(fā)的15μm厚的試制品。因?yàn)楹鼙?，所以呈下垂?fàn)顟B(tài)。左手拿的是兩片重疊在一起的125μm厚的透明導(dǎo)電膜。 （點(diǎn)擊放大

隨著平板電腦及智能手機(jī)向薄型化發(fā)展，作為其主要部件之一的觸摸面板的薄型化需求也非常強(qiáng)烈。據(jù)TDK介紹，目前主流的電容式觸摸面板用透明導(dǎo)電膜的厚度為125μm，但50μm產(chǎn)品的出貨量在2013年趨于增加，2014年將成為主流。而且，到2015年，市場上還將出現(xiàn)對(duì)更薄產(chǎn)品的需求。因此，該公司迅速開發(fā)出了厚度為15μm的透明導(dǎo)電膜。

透明導(dǎo)電膜難以實(shí)現(xiàn)薄型化的原因在于，在制造工序中薄膜容易受熱變形，導(dǎo)致透明導(dǎo)電材料在基板上成膜時(shí)不穩(wěn)定。這會(huì)造成明顯的成膜不均，使導(dǎo)電膜難以獲得均一的特性。TDK利用在約30年的磁帶制造中積累的知識(shí)和經(jīng)驗(yàn)，通過選擇合適的薄膜基板材料和透明導(dǎo)電材料、優(yōu)化成膜條件，解決了這一難題。

另外，TDK是在其位于日本大分縣日田市的三隈川工廠完成從材料的開發(fā)、選定到透明導(dǎo)電膜制造的整個(gè)流程。如果不采取這種一條龍?bào)w制，“此次的開發(fā)很難完成”（TDK）。

此次透明導(dǎo)電膜的透明導(dǎo)電材料使用的是利用濺射法成膜的ITO（銦錫氧化物）。薄膜電阻值為100Ω/□，可用于電容式觸摸面板。

另外，TDK將在10月1日～5日于幕張MESSE國際會(huì)展中心舉行的“CEATEC JAPAN 2013”上參考展出此次的薄膜試制品。（記者：田中 直樹，《日經(jīng)電子》）