中科院物理所微加工實驗室與日本物質(zhì)材料研究機構(gòu)合作，近日采用化學氣相沉積法獲得了N型的氮化硼半導體納米管。

氮化硼作為寬帶隙材料具有優(yōu)異的物理性質(zhì)和良好的化學惰性，是制作高可靠性器件與電路的理想電子材料之一。與碳納米管的電子結(jié)構(gòu)明顯依賴于管徑與螺旋度等因素不同，氮化硼納米管通常表現(xiàn)出穩(wěn)定一致的電學特性，有著非常誘人的應用前景。而實現(xiàn)氮化硼納米管的摻雜，誘導其半導體特性，是實現(xiàn)該材料大規(guī)模應用的關鍵。

對氮化硼納米管結(jié)構(gòu)進行的系統(tǒng)表征證明，這是一種穩(wěn)定的摻雜結(jié)構(gòu)。他們發(fā)現(xiàn)F摻雜實現(xiàn)了氮化硼納米管從絕緣體向半導體的轉(zhuǎn)變，低于5%的F摻雜濃度使氮化硼納米管的電導提高3個數(shù)量級以上。這一結(jié)果為采用該材料制作納電子器件的研究奠定了基礎。