北京時間8月6日消息，據(jù)國外媒體報道，臺聯(lián)電(UMC)周五對外發(fā)表聲明稱，臺積電(TSMC)CEO蔡力行(Rick Tsai)對聯(lián)電處理和艦科技關(guān)系所發(fā)表的評論屬惡意誹謗行為。

　　報道稱，在臺積電的一次內(nèi)部研討會上，蔡力行對員工們表示，聯(lián)電沒能正確處理好與和艦的關(guān)系，并表示臺積電一向主張誠實的原則。此言一出，立即招致了聯(lián)電的強烈不滿。聯(lián)電在一份聲明中說：“蔡力行是在發(fā)布誹謗性言論。”

　　和艦科技于2001年由一名前聯(lián)電高管創(chuàng)立，并于蘇州組建了芯片加工廠。聯(lián)電主席曹興誠此前承認(rèn)，公司曾向和艦提供了一些幫助。從今年2月開始，臺灣當(dāng)局對聯(lián)電與和艦之間的實質(zhì)關(guān)系展開了調(diào)查，并突襲了聯(lián)電辦公室以查找相關(guān)證據(jù)。

　　報道還稱，臺聯(lián)電還進(jìn)一步表示，雖然臺積電在內(nèi)地投資行為得到了臺灣當(dāng)局批準(zhǔn)，但它的具體操作也存在著“違規(guī)”之處。聯(lián)電在聲明中說：“臺灣當(dāng)局只批準(zhǔn)臺積電在內(nèi)地生產(chǎn)0.25微米產(chǎn)品，但它為上海工廠所購置的設(shè)備卻是為了生產(chǎn)0.18微米和0.13微米產(chǎn)品。業(yè)界已有傳聞稱，臺積電已經(jīng)在使用0.18微米技術(shù)為客戶加工產(chǎn)品。”(明月)