陶氏化學(xué)公司旗下的陶氏電子材料事業(yè)群日前推出了IKONIC 4000系列的化學(xué)機械研磨(CMP)研磨墊產(chǎn)品。該系列研磨墊初期將主要面向鈰基應(yīng)用。

“業(yè)界對于IKONIC技術(shù)的總體反映可謂出奇的好，”陶氏電子材料事業(yè)群的CMPT市場營銷總監(jiān)Colin Cameron介紹說。“IKONIC 4000系列為我們提供了最尖端的產(chǎn)品設(shè)計所普遍需要的很多至關(guān)重要的屬性。這些研磨墊具備高度的可調(diào)性，能夠進行定制以應(yīng)對特定的要求。陶氏的大批量制造方法以及對于工藝控制的專注確保了我們客戶的工藝過程中的一致性和可靠性，進一步地提高了產(chǎn)品效能。”

新的IKONIC 4000系列產(chǎn)品解決了以往在尖端研磨要求和低缺陷率之間的取舍難題。其全新的化學(xué)原理在整個研磨墊使用壽命內(nèi)均可提供穩(wěn)定的去除速率，使其特別適合用于與鈰基研磨相關(guān)的高難度領(lǐng)域。與業(yè)界標(biāo)準(zhǔn)IC1000研磨墊相比，IKONIC 4000系列產(chǎn)品在成品缺陷率方面改進了70%。

IKONIC 4000系列產(chǎn)品是陶氏與客戶協(xié)作開發(fā)的成果，目前可提供多種型號，涵蓋范圍很廣的硬度和孔洞率。籍此可以實現(xiàn)定制以便應(yīng)對具體的客戶要求。這些研磨墊還進行了優(yōu)化，以便使研磨墊的修整更為簡便，并使研磨墊在整個使用壽命里均保持穩(wěn)定的紋理。

IKONIC 4000系列產(chǎn)品已經(jīng)成功通過驗證，現(xiàn)在已可提供樣品。

關(guān)于IKONIC CMP研磨墊

IKONIC平臺將一整套獨特的化學(xué)特性與靈活的設(shè)計密度結(jié)合在一起，為客戶提供了范圍很廣的定制解決方案。這些研磨墊旨在改進缺陷率表現(xiàn)，從而提高晶圓良率，并使研磨墊使用壽命更長，從而實現(xiàn)更高的設(shè)備使用效率。針對產(chǎn)出量和選擇性方面的要求，IKONIC CMP研磨墊可以實現(xiàn)廣泛的去除率目標(biāo)要求，從而滿足工藝方面的需要。選擇IKONIC系列的產(chǎn)品亦有助于提高研磨效率和晶圓形貌。這些優(yōu)點使得IKONIC研磨墊平臺成為各種高級研磨應(yīng)用的完美選擇。