【導(dǎo)讀】凝聚兩公司三大核心技術(shù) 新型半導(dǎo)體材料分析平臺(tái)即將問世  
    Carl Zeiss SMT AG公司的Nano技術(shù)系統(tǒng)事業(yè)部和日本精工旗下的SII NanoTechnology公司合作開發(fā)出了一種顯微鏡工作站。這兩家公司已經(jīng)將此NVision 40工作站推向半導(dǎo)體材料市場(chǎng)。  

    NVision 40結(jié)合了這兩家公司的Gemini電子束技術(shù)，聚焦離子束（FIB）技術(shù)和注氣系統(tǒng)技術(shù)。它帶有兩個(gè)電子偵測(cè)器，可同時(shí)探測(cè)二次電子和背向散射電子。為了用于內(nèi)部缺陷分析和納米構(gòu)型應(yīng)用，該平臺(tái)還帶有SIINT的FIB列和一個(gè)單注射器多通道氣體注入系統(tǒng)。FIB可以達(dá)到一個(gè)4nM的分辨率。  

    Carl Zeiss NTS公司的執(zhí)行董事Dirk Stenkamp說：“NVision 40結(jié)合了我們最成熟的核心技術(shù)，展示了我們的技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)地位和創(chuàng)新的強(qiáng)大動(dòng)力，將使我們的客戶能夠快速并高效地滿足甚至超越納米技術(shù)領(lǐng)域里現(xiàn)在和將來的的要求。  

    Carl Zeiss 公司表示，NVision 40的展示品將在2006年9月問世，而系列產(chǎn)品系統(tǒng)的供應(yīng)則要等到2007年1月才開始。  

    Carl Zeiss公司NTS事業(yè)部過去曾給Molecular Imprints公司在步進(jìn)快閃式壓印微影(S-FIL)設(shè)備上提供過支持。