光電子產業(yè)發(fā)展需要不斷的創(chuàng)新，尤其是重大科研儀器設備的研發(fā)，能夠轉化為巨大推動力。近日，國家重大科研儀器設備研制專項——“1.5米掃描干涉場曝光系統(tǒng)”項目啟動，將推動多個領域技術發(fā)展，以及光電子產業(yè)技術提升。

該項目由中科院長春光機所承擔，項目總經費為8300萬元，研制周期為5年。該項目將突破多項關鍵技術，如精密光機結構加工、測量及系統(tǒng)裝調技術，干涉場測量及相位鎖定技術、關鍵環(huán)境控制技術等，通過干涉場步進掃描曝光方式獲得大面積高精度全息光柵。

隨著我國航天事業(yè)的發(fā)展，深空探測已經成為發(fā)展的主要趨勢，但這需要大量的先進技術與設備支撐。進行深空探測等研究，對光柵的要求并不是普通產品能夠滿足的，特種光柵的研制就顯得十分重要了。該項目獲得的大面積高精度全息光柵能夠滿足深空探測需求，推動我國航天事業(yè)發(fā)展。此外還適用于激光慣性約束核聚變等科學研究。該項目的研究不僅滿足了我國深空探測對特種光柵的需求，同時也將帶動吉林省光電子產業(yè)的發(fā)展。